大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠家
vertex70v光譜儀采用rocksolid?永久準(zhǔn)直高性能干涉儀，能滿足從常規(guī)分析測量到高端科研領(lǐng)域的各種應(yīng)用需求。采用ultrascan?真正準(zhǔn)直專利干涉儀的vertex80和vertex80v是針對業(yè)內(nèi)最前沿的科研應(yīng)用設(shè)計(jì)的，它具備極高的光譜分辨率、能實(shí)現(xiàn)目前業(yè)內(nèi)最高水平的快速掃描和步進(jìn)掃描測量，能在最廣的光譜范圍內(nèi)提供卓越的性能。vertex70v及vert
更新時(shí)間:2025-12-27
歐羅拉致力于為各種研究領(lǐng)域的科學(xué)家提供自動化液體處理系統(tǒng)，包括：醫(yī)藥、生物技術(shù)、農(nóng)業(yè)、食品科學(xué)和法醫(yī)。versa系列作為液體處理系統(tǒng)，可以提高處理效率和數(shù)據(jù)質(zhì)量，降低重復(fù)煩瑣工作帶來的不穩(wěn)定性和減少試劑成本。
更新時(shí)間:2025-12-27
aa-7000是島津研發(fā)的一款高性能的火焰石墨爐一體機(jī)原子吸收分光光度計(jì)。雙原子化器自動切換。
更新時(shí)間:2025-12-27
mga系列石墨爐原子吸收經(jīng)過二十年多年的發(fā)展，具備成熟的儀器方法和配置，獨(dú)特的優(yōu)勢特點(diǎn)受到廣大用戶的好評。
更新時(shí)間:2025-12-27
技術(shù)參數(shù)：1.光度計(jì)：高光通量的單光束/雙光束自動切換技術(shù)；2.單色器：czemyturner單色器，1800條刻線/mm；3.燈座：全自動8燈座，自動準(zhǔn)直；4.背景校正：電子調(diào)諧氘空心陰極燈和三磁場塞曼效應(yīng)雙扣背景；5.磁場強(qiáng)度:0.1-1.0t可調(diào)，可在2-磁場塞曼和3-磁場塞曼模式間切換；6.石墨爐：橫向加熱石墨爐，室溫-3000度控溫，加熱速度最高3000度/秒；7.
更新時(shí)間:2025-12-27
spectrumtwo系統(tǒng)適合于各種各樣的應(yīng)用。spectrumtwo具有完全一體化且可靠的通用采樣功能，輕松進(jìn)行測量并提供便攜選配件，是適用于實(shí)驗(yàn)室和現(xiàn)場測試環(huán)境的理想儀器。perkinelmer擁有超過65年的光譜儀行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，我們將這些專業(yè)知識濃縮在一臺儀器上，幫助您快速確保材料質(zhì)量。
更新時(shí)間:2025-12-27
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優(yōu)異，適合于產(chǎn)品可靠性測試、質(zhì)量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時(shí)間:2025-12-27
r&d100金獎產(chǎn)品，在儀器設(shè)計(jì)和性能各個(gè)方面都有非常出色的表現(xiàn)。做為新一代工業(yè)在線級傅立葉變換近紅外光譜分析儀，該儀器采用了多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，滿足各種工業(yè)現(xiàn)場要求：rocksolid干涉儀，bruker的專利技術(shù)；digitect技術(shù)，檢測器為數(shù)字檢測器，bruker的專利技術(shù)；多用途光纖探頭滿足各種工業(yè)環(huán)境；強(qiáng)大的遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)交換系統(tǒng)，能與工業(yè)控制系統(tǒng)或其它外圍計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)交換。
更新時(shí)間:2025-12-27
瑞士buchi公司的近紅外技術(shù)給您的整個(gè)生產(chǎn)鏈提供了完整的分析測試方案，從進(jìn)廠原料的檢測到生產(chǎn)過程到最終產(chǎn)品的分析測試。
更新時(shí)間:2025-12-27
洋光學(xué)oceanhdxraman是款專門為785nm拉曼應(yīng)用而設(shè)計(jì)的微型光纖光譜儀，可覆蓋150cm-1-3400cm-1的測景范圍。
更新時(shí)間:2025-12-27
hr4000cg復(fù)合光柵光譜儀采用專利光柵技術(shù)并使用濾光片消除二三級衍射的影響，從而達(dá)到200-1100nm波長范圍和0.75nm光學(xué)分辨率(fwhm)。hr4000cg光譜儀采用預(yù)配置設(shè)計(jì)-所有的光學(xué)平臺選件都為您預(yù)先選定。
更新時(shí)間:2025-12-27
便攜式近紅外光譜儀flame-nir光纖光譜儀是海洋光學(xué)較小的近紅外光譜儀。結(jié)合帶有新型非冷卻ingaas探測器的小尺寸flame光具座，flame-nir光譜儀在近紅外光譜方面開拓了一個(gè)全新的領(lǐng)域。由于無需tec冷卻，flame-nir的功耗需求超低，使得它非常適合整合到手持式系統(tǒng)和便攜系統(tǒng)。flame-nir具有flame系列產(chǎn)品的所有優(yōu)勢，包括可互換狹縫和低的臺間差。flame-nir光
更新時(shí)間:2025-12-27
如果您應(yīng)用nir光譜在研究，診斷或過程控制中的話，海洋光學(xué)nirquest近紅外光纖光譜儀將是一個(gè)低成本，方便的選擇，可取代ft-ir或同類技術(shù)的系統(tǒng)。nirquest光譜儀采用高性能的光學(xué)平臺，具有較低的電子噪聲和多個(gè)光柵的選擇。
更新時(shí)間:2025-12-27
在可見光至近紅外波段，地表物體自身的熱輻射幾乎為零。地物發(fā)出的波譜主要以反射太陽輻射為主。地物光譜測量是依據(jù)地球表面物體對可見光和近紅外光的反射特性對物體做定性或定量分析的方法。用于測量、采集、分析地表物體在野外自然條件下的反射率的光譜儀器我們稱之為地物光譜儀。海洋光學(xué)現(xiàn)推出fs1100手持式地物光纖光譜儀,專用于地表特征反射光譜的測量?？蓪?shí)現(xiàn)快速、準(zhǔn)確、無損且非接觸式光譜測量。
更新時(shí)間:2025-12-27
mpaii是布魯克光譜部門集近40年設(shè)計(jì)和生產(chǎn)ftir和ft-nir光譜儀經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶，該儀器具有強(qiáng)大的擴(kuò)展靈活性和優(yōu)越的性能，為ft-nir分析儀器樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。其高性能的附件和靈活的操作性，成為實(shí)驗(yàn)室和過程分析開發(fā)各種方法不可缺少的強(qiáng)有力工具，能夠最大程度的滿足不同用戶科研和生產(chǎn)qa/qc的需求。采用模塊化設(shè)計(jì)，可以針對每個(gè)分析任務(wù)進(jìn)行單獨(dú)配置。卓越的擴(kuò)展性能在有特定
更新時(shí)間:2025-12-27
用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有thermal-ald、peald、particle-ald和生產(chǎn)型ald;具備近100種膜層工藝。應(yīng)用領(lǐng)域：芯片封裝、半導(dǎo)體high-k介電層、納米涂層、3d涂層、鋰電池、催化劑、太陽能電池、5g通訊（saw器件）、生物醫(yī)學(xué)仿生、熒光材料、oled顯示、有機(jī)材料、電子電路、光學(xué)膜等。
更新時(shí)間:2025-12-27
美國creativedesignengineering,簡稱“cde”，成立于1995年，位于美國加州硅谷的庫比蒂諾-cupertino,cde公司專注于四探針設(shè)備的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)1000臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)，“cde”是四探針領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)品牌。
更新時(shí)間:2025-12-27
美國fourdimensions,inc,簡稱“4d”，成立于1978年，位于美國加州硅谷的hayward,4d公司專注于四探針設(shè)備和cv儀的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)800臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-12-27
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。
更新時(shí)間:2025-12-27
激光分子束外延(lasermbe)是上個(gè)世紀(jì)90年代發(fā)展起來的一種新型高精密制膜技術(shù)，它集pld的制膜特點(diǎn)和傳統(tǒng)mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實(shí)時(shí)監(jiān)控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導(dǎo)體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點(diǎn)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜，如超導(dǎo)體、光學(xué)晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機(jī)高分子等。
更新時(shí)間:2025-12-27
基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團(tuán)新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積。基于uv(5-6ev)的傳統(tǒng)pld技術(shù)中，光化學(xué)反應(yīng)可能會惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質(zhì))混合來制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。
更新時(shí)間:2025-12-27
1.ald(傳統(tǒng)的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強(qiáng)原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學(xué)氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
更新時(shí)間:2025-12-27
nld-3500（a）全自動原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時(shí)間:2025-12-27
sal-3000ald原子層沉積系統(tǒng)sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時(shí)間:2025-12-27
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應(yīng)器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。tuomosuntola博士，于1974年發(fā)明了ald技術(shù)，是picosun董事會的成員。我們的首席技術(shù)官svenlindfors從1975年開始連續(xù)的設(shè)計(jì)ald系統(tǒng)。綜合起來講，picosun擁有了200多年的ald經(jīng)驗(yàn)并貢獻(xiàn)了100多項(xiàng)ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。技術(shù)參
更新時(shí)間:2025-12-27
系統(tǒng)中的pecvd可以沉積高質(zhì)量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應(yīng)耦合等離子體（icp）源。
更新時(shí)間:2025-12-27
pe-cvd解決方案與典型cvd反應(yīng)器相比，等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(pe-cvd)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案，同時(shí)不會降低薄膜質(zhì)量。高質(zhì)量的二氧化硅(sio2)膜可以在300℃至350℃沉積，而cvd需要650℃至850℃的溫度生產(chǎn)類似質(zhì)量的鍍膜。pe-cvd使用電能產(chǎn)生輝光放電(等離子體)，其中能量轉(zhuǎn)移到氣體混合物中。
更新時(shí)間:2025-12-27
parkfx40納米科學(xué)研發(fā)界應(yīng)運(yùn)而生的的新型全自動原子力顯微鏡該產(chǎn)品可以通過多樣化的應(yīng)用程序，不費(fèi)吹灰之力即可獲得最敏銳、最清晰、最高分辨率的掃描圖像。
更新時(shí)間:2025-12-27
aperiogt450標(biāo)記為僅供研究使用，可提供優(yōu)先掃描的連續(xù)機(jī)架裝載，僅需32秒即可在病理載玻片上以40x放大率掃描15mm15mm組織區(qū)域，吞吐量為81載玻片/小時(shí)。這項(xiàng)新技術(shù)允許客戶進(jìn)行研究以擴(kuò)大數(shù)字病理學(xué)，以滿足不斷增加的滑動量需求。
更新時(shí)間:2025-12-27
1.悠久的電子顯微鏡研究及生產(chǎn)歷史zeiss公司具有悠久的電鏡研究、生產(chǎn)歷史，在世界上一直處于地位。當(dāng)今的zeiss公司納米技術(shù)系統(tǒng)分部（thenanotechnologysystemsdivisionofcarlzeisssmt）由德國本部電鏡生產(chǎn)基地和英國劍橋廠及其他配件廠組成。
更新時(shí)間:2025-12-27
在以納米技術(shù)和生物技術(shù)為主的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域里，從物質(zhì)的微細(xì)結(jié)構(gòu)到組成成分，sem在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應(yīng)用。sem用途日益擴(kuò)大，但對于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車零配件等超大/超重樣品，由于電鏡樣品臺能對應(yīng)的樣品尺寸和重量受到限制，所以觀察時(shí)需要進(jìn)行切割等加工。因此，對超大樣品不施以加工處理，便可直接觀察表面微細(xì)形貌和進(jìn)行各種分析則成為重要的課題?！?/div>
更新時(shí)間:2025-12-27
rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)sem-raman(risemicroscopy)rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)是一款新穎的顯微鏡技術(shù)，在一個(gè)集成的顯微鏡系統(tǒng)中結(jié)合了共焦拉曼成像和掃描電子顯微鏡技術(shù)，這種獨(dú)特的組合為顯微鏡用戶對樣品進(jìn)行綜合表征，提供了明顯的優(yōu)勢。掃描電子顯微鏡是一個(gè)很好的表征納米范圍內(nèi)樣品表面結(jié)構(gòu)的可視化技術(shù)，而共焦拉曼成像是表征樣品化學(xué)和分子組成的成熟光譜方法。
更新時(shí)間:2025-12-27
荷蘭lumicks超分辨單分子動力分析儀（熒光光鑷）c-trap，是上款將光鑷、共聚焦或sted超分辨顯微鏡和微流控系統(tǒng)結(jié)合的單分子操控儀器。c-trap通過高度聚焦激光束產(chǎn)生的力來操作納米/微米顆粒，實(shí)現(xiàn)了對生物分子的單分子操縱，并且結(jié)合力學(xué)檢測系統(tǒng)和
更新時(shí)間:2025-12-27
美國應(yīng)用生物系統(tǒng)公司abi高產(chǎn)率熒光定量pcr儀viia7,集高性能熒光定量pcr儀的先進(jìn)性能于一身,實(shí)現(xiàn)了無與倫比的可重復(fù)性，孔間差異、批間差異、不同儀器間差異降至低。儀器可與標(biāo)準(zhǔn)96孔板，快速96孔板，384孔及taqman微流體芯片和各種試劑完全兼容，在任何規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室均可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率熒光定量pcr。
更新時(shí)間:2025-12-27
美國abi應(yīng)用生物系統(tǒng)數(shù)字pcr儀quantstudio3d是一款基于芯片的儀器,它能夠?qū)δ繕?biāo)dna分子做出絕對定量并且提供了無與倫比的準(zhǔn)確度，精密度和靈敏度。
更新時(shí)間:2025-12-27
美國bio-rad轉(zhuǎn)基因儀基因槍系統(tǒng)helios,是一種方便的手提式設(shè)備，可對細(xì)胞進(jìn)行快速直接的原位基因轉(zhuǎn)移。該系統(tǒng)通過可調(diào)節(jié)的氦氣脈沖，來帶動位于小塑料管內(nèi)壁處預(yù)包有dna、rna或其它生物材料的金粉顆粒，將其直接打入細(xì)胞內(nèi)部。使用樣品管制備站可很容易地制備管內(nèi)“子彈”。
更新時(shí)間:2025-12-27
日立hitachi掃描電鏡flexsem1000,小巧性能優(yōu)異的鎢燈絲電鏡，擁有大束流和低球差的物鏡和聚光鏡設(shè)計(jì)，配備了高分辨率二次電子探頭及高靈敏度五分割背散射探頭，具有卓越的低真空成像能量，并且采用新的semmap高精度導(dǎo)航系統(tǒng)及新全的自動化功能，使性能更加優(yōu)越，使用更加簡便。
更新時(shí)間:2025-12-27
美國molecular光吸收型酶標(biāo)儀spectramax190,全波長、多通道微孔板檢測儀-spectramax190光吸收型酶標(biāo)儀,紫外-可見光吸收讀板機(jī)，波長范圍190-850nm，光學(xué)系統(tǒng)由8個(gè)配備獨(dú)立樣品檢測器和8個(gè)參照檢測的組成，速度和精度雙重保障，0-4.0od的檢測范圍，可做終點(diǎn)法、動力學(xué)、光譜掃描。
更新時(shí)間:2025-12-27
賽默飛exploris480作為革命性全新一代組合型超高分辨質(zhì)譜系統(tǒng)，賽默飛themoscientific高分辨質(zhì)譜儀orbitrapexploris480占用的空間更小，同時(shí)保持了高分辨率、高質(zhì)量精度和圖譜質(zhì)量。新儀器具有很多新特性，可以延長正常運(yùn)行時(shí)間，并在高通量分析試驗(yàn)中提高超強(qiáng)穩(wěn)定性。其結(jié)合成熟的技術(shù)，先進(jìn)的功能和智能驅(qū)動分析框架為研究科學(xué)家更廣泛應(yīng)用質(zhì)譜進(jìn)行高通量的蛋白質(zhì)鑒定、定量和結(jié)構(gòu)表征。全新的surequant及boxcar方法包為超敏感目標(biāo)蛋白定量提供強(qiáng)大助力
更新時(shí)間:2025-12-27
德國allresist正電子束光刻膠ar-p6200(csar62)，高分辨率，用于生產(chǎn)集成電路和掩模的高對比度電子束電阻。電子束;層thickn。0,05-1,6evm(6000-1000rpm)，高靈敏度，可通過開發(fā)人，高分辨率(<10nm)和非常高的對
更新時(shí)間:2025-12-27
德國allresist防護(hù)涂層pmmaelectra92(ar-pc5090)，用于非氮基電子束電阻的導(dǎo)電保護(hù)涂層，用于在絕緣襯底上耗散電子束電荷的頂層。
更新時(shí)間:2025-12-27
microchem光刻膠su-82000系列永久性環(huán)氧負(fù)性光刻膠:su-82025,su-82035,su-82050,su-82075，su-82000是一種高對比度的環(huán)氧樹脂基光刻膠，適用于微加工和其他微電子應(yīng)用域，需要厚、化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。su-82
更新時(shí)間:2025-12-27
德國allresist正電子束光刻膠ar-p610系列，用于納米光刻的ar-p617電子束電阻，共聚物抗蝕劑系列用于生產(chǎn)集成電路和掩模。
更新時(shí)間:2025-12-27
英國emresist電子束光刻膠smlresist,sml50,sml100,sml300,sm600,sml1000,sml2000
更新時(shí)間:2025-12-27
e-beam電子束光刻膠：hsqxr-1541-006,z520,pmma,。ebl6000系列，ma-n2400系列。納米壓印膠：mr-nil6000e,mr-l900m,mr-uvcur21。光固化膠：ormo系列。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國allresist特殊工藝用光刻膠，電子束曝光導(dǎo)電膠，耐酸堿保護(hù)膠，聚酰亞胺膠（耐高溫保護(hù)膠），全息光刻用膠，長波曝光膠，深紫外曝光膠等特殊工藝用膠。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國allresist電子束光刻膠（電子束抗蝕劑）e-beamresist電子束正膠：pmma膠，pmma/ma聚合物，liga用膠等。電子束負(fù)膠：高分辨率電子束負(fù)膠，化學(xué)放大膠（高靈敏度電子束膠）等。
更新時(shí)間:2025-12-27
最新產(chǎn)品
- 1FT5066-1AG71 2025/12/28 20:44:46
- 4EM5003-2CB 2025/12/28 20:44:12
- 1FT6105-1AC71-.A.1 2025/12/28 20:41:38
- 1FT6086-8AC7.-. 2025/12/28 20:40:53
- 4EP3601-2DS 2025/12/28 20:40:22
- 4EP4003-0DS 2025/12/28 20:39:34
- 4EP4002-2DS 2025/12/28 20:36:42
- 1PH7107-..F..-. 2025/12/28 20:35:59
- 1PH7228-..F..-. 2025/12/28 20:35:15
- 1FN3003-0PH00-1BC0 2025/12/28 20:34:40
- 1FT5064-1AG71 2025/12/28 20:31:58
- 4EU2721-0DA00 2025/12/28 20:31:20
- 4EM4912-7CB 2025/12/28 20:30:41
- 4EP3701-1DS 2025/12/28 20:29:58
- 1FT6102-1AC71-.E.1 2025/12/28 20:27:15
- 4EM6100-4CB 2025/12/28 20:26:36
- 1PH7107-..G..-0 2025/12/28 20:25:57
- 1PH2186-6WB41 2025/12/28 20:25:24
- 1PH7103-..G..-. 2025/12/28 20:22:44
- 1FK6063-6AF71-1 2025/12/28 20:22:01
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