大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠家
便攜式近紅外光譜儀flame-nir光纖光譜儀是海洋光學(xué)較小的近紅外光譜儀。結(jié)合帶有新型非冷卻ingaas探測(cè)器的小尺寸flame光具座，flame-nir光譜儀在近紅外光譜方面開拓了一個(gè)全新的領(lǐng)域。由于無(wú)需tec冷卻，flame-nir的功耗需求超低，使得它非常適合整合到手持式系統(tǒng)和便攜系統(tǒng)。flame-nir具有flame系列產(chǎn)品的所有優(yōu)勢(shì)，包括可互換狹縫和低的臺(tái)間差。flame-nir光
更新時(shí)間:2025-06-13
如果您應(yīng)用nir光譜在研究，診斷或過(guò)程控制中的話，海洋光學(xué)nirquest近紅外光纖光譜儀將是一個(gè)低成本，方便的選擇，可取代ft-ir或同類技術(shù)的系統(tǒng)。nirquest光譜儀采用高性能的光學(xué)平臺(tái)，具有較低的電子噪聲和多個(gè)光柵的選擇。
更新時(shí)間:2025-06-13
在可見光至近紅外波段，地表物體自身的熱輻射幾乎為零。地物發(fā)出的波譜主要以反射太陽(yáng)輻射為主。地物光譜測(cè)量是依據(jù)地球表面物體對(duì)可見光和近紅外光的反射特性對(duì)物體做定性或定量分析的方法。用于測(cè)量、采集、分析地表物體在野外自然條件下的反射率的光譜儀器我們稱之為地物光譜儀。海洋光學(xué)現(xiàn)推出fs1100手持式地物光纖光譜儀,專用于地表特征反射光譜的測(cè)量。可實(shí)現(xiàn)快速、準(zhǔn)確、無(wú)損且非接觸式光譜測(cè)量。
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mpaii是布魯克光譜部門集近40年設(shè)計(jì)和生產(chǎn)ftir和ft-nir光譜儀經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶，該儀器具有強(qiáng)大的擴(kuò)展靈活性和優(yōu)越的性能，為ft-nir分析儀器樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。其高性能的附件和靈活的操作性，成為實(shí)驗(yàn)室和過(guò)程分析開發(fā)各種方法不可缺少的強(qiáng)有力工具，能夠最大程度的滿足不同用戶科研和生產(chǎn)qa/qc的需求。采用模塊化設(shè)計(jì)，可以針對(duì)每個(gè)分析任務(wù)進(jìn)行單獨(dú)配置。卓越的擴(kuò)展性能在有特定
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用于沉積納米級(jí)薄膜、納米粉末包覆、長(zhǎng)深孔樣品鍍膜;具有thermal-ald、peald、particle-ald和生產(chǎn)型ald;具備近100種膜層工藝。應(yīng)用領(lǐng)域：芯片封裝、半導(dǎo)體high-k介電層、納米涂層、3d涂層、鋰電池、催化劑、太陽(yáng)能電池、5g通訊（saw器件）、生物醫(yī)學(xué)仿生、熒光材料、oled顯示、有機(jī)材料、電子電路、光學(xué)膜等。
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美國(guó)creativedesignengineering,簡(jiǎn)稱“cde”，成立于1995年，位于美國(guó)加州硅谷的庫(kù)比蒂諾-cupertino,cde公司專注于四探針設(shè)備的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)1000臺(tái)以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽(yáng)能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)，“cde”是四探針領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)品牌。
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美國(guó)fourdimensions,inc,簡(jiǎn)稱“4d”，成立于1978年，位于美國(guó)加州硅谷的hayward,4d公司專注于四探針設(shè)備和cv儀的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)800臺(tái)以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽(yáng)能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)。
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nsc-3000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。
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激光分子束外延(lasermbe)是上個(gè)世紀(jì)90年代發(fā)展起來(lái)的一種新型高精密制膜技術(shù)，它集pld的制膜特點(diǎn)和傳統(tǒng)mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長(zhǎng)的原位實(shí)時(shí)監(jiān)控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長(zhǎng)通常的半導(dǎo)體超晶格材料，特別適合生長(zhǎng)多元素、高熔點(diǎn)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜，如超導(dǎo)體、光學(xué)晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機(jī)高分子等。
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基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團(tuán)新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積；趗v(5-6ev)的傳統(tǒng)pld技術(shù)中，光化學(xué)反應(yīng)可能會(huì)惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過(guò)將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長(zhǎng)的溶劑(基質(zhì))混合來(lái)制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。
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1.ald(傳統(tǒng)的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強(qiáng)原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡(jiǎn)介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學(xué)氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
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nld-3500（a）全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時(shí)間:2025-06-13
sal-3000ald原子層沉積系統(tǒng)sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時(shí)間:2025-06-13
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應(yīng)器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。tuomosuntola博士，于1974年發(fā)明了ald技術(shù)，是picosun董事會(huì)的成員。我們的首席技術(shù)官svenlindfors從1975年開始連續(xù)的設(shè)計(jì)ald系統(tǒng)。綜合起來(lái)講，picosun擁有了200多年的ald經(jīng)驗(yàn)并貢獻(xiàn)了100多項(xiàng)ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。技術(shù)參
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系統(tǒng)中的pecvd可以沉積高質(zhì)量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應(yīng)耦合等離子體（icp）源。
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pe-cvd解決方案與典型cvd反應(yīng)器相比，等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(pe-cvd)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案，同時(shí)不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。高質(zhì)量的二氧化硅(sio2)膜可以在300℃至350℃沉積，而cvd需要650℃至850℃的溫度生產(chǎn)類似質(zhì)量的鍍膜。pe-cvd使用電能產(chǎn)生輝光放電(等離子體)，其中能量轉(zhuǎn)移到氣體混合物中。
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parkfx40納米科學(xué)研發(fā)界應(yīng)運(yùn)而生的的新型全自動(dòng)原子力顯微鏡該產(chǎn)品可以通過(guò)多樣化的應(yīng)用程序，不費(fèi)吹灰之力即可獲得最敏銳、最清晰、最高分辨率的掃描圖像。
更新時(shí)間:2025-06-13
aperiogt450標(biāo)記為僅供研究使用，可提供優(yōu)先掃描的連續(xù)機(jī)架裝載，僅需32秒即可在病理載玻片上以40x放大率掃描15mm15mm組織區(qū)域，吞吐量為81載玻片/小時(shí)。這項(xiàng)新技術(shù)允許客戶進(jìn)行研究以擴(kuò)大數(shù)字病理學(xué)，以滿足不斷增加的滑動(dòng)量需求。
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1.悠久的電子顯微鏡研究及生產(chǎn)歷史zeiss公司具有悠久的電鏡研究、生產(chǎn)歷史，在世界上一直處于地位。當(dāng)今的zeiss公司納米技術(shù)系統(tǒng)分部（thenanotechnologysystemsdivisionofcarlzeisssmt）由德國(guó)本部電鏡生產(chǎn)基地和英國(guó)劍橋廠及其他配件廠組成。
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在以納米技術(shù)和生物技術(shù)為主的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域里，從物質(zhì)的微細(xì)結(jié)構(gòu)到組成成分，sem在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應(yīng)用。sem用途日益擴(kuò)大，但對(duì)于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車零配件等超大/超重樣品，由于電鏡樣品臺(tái)能對(duì)應(yīng)的樣品尺寸和重量受到限制，所以觀察時(shí)需要進(jìn)行切割等加工。因此，對(duì)超大樣品不施以加工處理，便可直接觀察表面微細(xì)形貌和進(jìn)行各種分析則成為重要的課題！
更新時(shí)間:2025-06-13
rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)sem-raman(risemicroscopy)rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)是一款新穎的顯微鏡技術(shù)，在一個(gè)集成的顯微鏡系統(tǒng)中結(jié)合了共焦拉曼成像和掃描電子顯微鏡技術(shù)，這種獨(dú)特的組合為顯微鏡用戶對(duì)樣品進(jìn)行綜合表征，提供了明顯的優(yōu)勢(shì)。掃描電子顯微鏡是一個(gè)很好的表征納米范圍內(nèi)樣品表面結(jié)構(gòu)的可視化技術(shù)，而共焦拉曼成像是表征樣品化學(xué)和分子組成的成熟光譜方法。
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飛納臺(tái)式掃描電鏡1997年fei和飛利浦電子光學(xué)宣布合并其全球業(yè)務(wù)2008年臺(tái)式掃描電子顯微鏡飛納(phenom)進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)2012年飛納(phenom）臺(tái)式掃描電鏡全球銷最突破2000臺(tái)2013年飛納（phenom)發(fā)布第三代臺(tái)式掃描電鏡，放大倍數(shù)10萬(wàn)倍，分辨率優(yōu)于8nm17世紀(jì)荷蘭光學(xué)天才:antonivanleeuwenhoek設(shè)計(jì)并制造世界第一臺(tái)光學(xué)顯微鏡。
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電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)，簡(jiǎn)潔小巧phenomprox的能譜儀eds是針對(duì)臺(tái)式電鏡設(shè)計(jì)的，本著臺(tái)式電鏡簡(jiǎn)單易用，售后無(wú)憂的宗旨，phenomprox的能譜儀eds系統(tǒng)完全嵌入在電鏡主機(jī)中，利用半導(dǎo)體制冷，無(wú)需額外冷卻系統(tǒng)。
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蔡司gemini系列場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有出色的探測(cè)效率，能夠輕松實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像，適用于多種材料的高分辨成像與分析。無(wú)論是在高真空還是可變真空模式下，對(duì)任意樣品進(jìn)行成像時(shí)都具有更高的表面細(xì)節(jié)信息，，可獲取各類樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像。為生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室、成像平臺(tái)、高校或研究機(jī)構(gòu)提供靈活、可靠的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微技術(shù)與解決方案。
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alosl120ctem產(chǎn)品描述talosl120ctem在為模塊化多功能性、最大穩(wěn)定性和操作簡(jiǎn)便性而設(shè)計(jì)的平臺(tái)上提供經(jīng)驗(yàn)證的最佳成像性能。thermoscientifictmtalostml120ctem通過(guò)模塊化設(shè)計(jì)和改進(jìn)的光學(xué)穩(wěn)定性，從而產(chǎn)生超高的觀測(cè)效率、穩(wěn)定的運(yùn)行時(shí)間以及舒適的操作體驗(yàn)。talosl120ctem是入門級(jí)冷凍研究的理想解決方案，簡(jiǎn)單的點(diǎn)擊成像，以及用于
更新時(shí)間:2025-06-13
日立新一代全數(shù)字化120kv透射電子顯微鏡ht7800，屬于日立瑠璃系列產(chǎn)品rulitem，操作的一體化和自動(dòng)化程度都有明顯提高。ht7800系列產(chǎn)品有兩個(gè)型號(hào)ht7800和ht7830。ht7800系列產(chǎn)品的最大特點(diǎn)是采用日立最新設(shè)計(jì)的第二代雙隙物鏡，很好地繼承了日立120kv-tem的基本理念，兼顧低倍率與寬視野觀察、高襯度與高分辨率觀察，可在同一儀器上一鍵切換等。集高襯度和高
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日本電子株式會(huì)社2010年7月最新推出了冷場(chǎng)發(fā)射雙球差校正原子分辨和分析型透射電鏡。傳統(tǒng)的冷場(chǎng)發(fā)射技術(shù)穩(wěn)定性差，亮度低，無(wú)法保證透射電鏡的使用需求。日本電子株式會(huì)社最新開發(fā)的冷場(chǎng)發(fā)射技術(shù)解決了這些問(wèn)題，并把該技術(shù)加入到最新球差校正透射電鏡arm200f序列里。使arm200f在保證亞納米分辨率0.078nm的同時(shí)，能量分辨率提高到0.3ev，極大增強(qiáng)了原子級(jí)觀察和原子級(jí)分析能力。在美國(guó)的第一臺(tái)搭載
更新時(shí)間:2025-06-13
冷凍電鏡技術(shù)獲取生命過(guò)程中相關(guān)生物機(jī)器的結(jié)構(gòu)信息對(duì)于充分理解生物學(xué)過(guò)程和疾病的發(fā)病機(jī)制至關(guān)重要。值得注意的是，在基礎(chǔ)生物學(xué)或疾病發(fā)病機(jī)制中起關(guān)鍵作用的蛋白質(zhì)，經(jīng)常具有多重構(gòu)象或者與其他蛋白質(zhì)相互作用形成復(fù)合體，這一情況變得日益明顯。這些大的和/或動(dòng)態(tài)的體系給傳統(tǒng)3d結(jié)構(gòu)解析方法帶來(lái)了挑戰(zhàn)。
更新時(shí)間:2025-06-13
產(chǎn)品特性：●主要應(yīng)用領(lǐng)域：高？蒲、光學(xué)元件生產(chǎn)企業(yè)；●借助參比光束衰減器，可測(cè)量超過(guò)8.0個(gè)吸光度單位(abs)●測(cè)量范圍可達(dá)175-3300nm—使用pbsmart近紅外檢測(cè)器擴(kuò)展了光度范圍●winuv軟件—模塊化的軟件具有強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析、處理與報(bào)告導(dǎo)出功能●成套多功能附件—可用于包括鏡面反射和漫反射在內(nèi)的材料研究●可變狹縫寬度（最小為0.01n
更新時(shí)間:2025-06-13
高通量●雙光束光學(xué)設(shè)計(jì)●氙閃光燈無(wú)需預(yù)熱時(shí)間，可進(jìn)行瞬時(shí)測(cè)量●需要參比的理想選擇，例如動(dòng)力學(xué)●標(biāo)配8聯(lián)池●可使用光纖耦合器和探頭在樣品室外進(jìn)行測(cè)量，無(wú)需比色皿●與自動(dòng)進(jìn)樣器、帕爾貼、智能吸液附件和光纖探頭附件兼容
更新時(shí)間:2025-06-13
主要特點(diǎn)如下：1.寬波長(zhǎng)范圍190-3300nm,滿足更多測(cè)定需求。2.低噪音采用連續(xù)可變狹縫，在近紅外波長(zhǎng)區(qū)測(cè)定低光量時(shí)，自動(dòng)加寬狹縫；測(cè)定高光量時(shí)，自動(dòng)減小狹縫寬度。支持低噪音測(cè)定超大范圍波長(zhǎng)區(qū)域3.高速掃描采用齒輪驅(qū)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了紫外-可見-近紅外區(qū)域的快速掃描。4.低雜散光、超大測(cè)光范圍標(biāo)配新研發(fā)的蝕刻衍射光柵和高光量單色器。5.采用全新控制軟件，操作更加便捷采用uvsolu
更新時(shí)間:2025-06-13
主要特點(diǎn)：1、主機(jī)：雙光束、雙單色器、比例記錄并由計(jì)算機(jī)控制的紫外/可見（/近紅外）分光光度計(jì)。2、光學(xué)系統(tǒng)：整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)全部采用涂有sio2保護(hù)層的反射光學(xué)元件，全息刻線光柵刻線密度高（紫外/可見為1440條/mm，近紅外360條/mm）；采用先進(jìn)的四區(qū)分段的扇形信號(hào)收集的斬波器，確保了每次得到準(zhǔn)確樣品和參比的信號(hào)（斬波器運(yùn)轉(zhuǎn)期間，樣品和參比的信號(hào)分別單獨(dú)被各自的黑區(qū)信號(hào)所校正，波長(zhǎng)精度高：紫外
更新時(shí)間:2025-06-13
主要特點(diǎn)：1、軟件系統(tǒng)內(nèi)置多種分析方法及標(biāo)準(zhǔn)曲線，提供全面解決方案免費(fèi)提供了各行業(yè)常用的分析方法，點(diǎn)擊相應(yīng)選項(xiàng)，即可開始試驗(yàn)，實(shí)現(xiàn)真正的智能化分析。
更新時(shí)間:2025-06-13
uv-1900i是一款雙光束紫外可見分光光度計(jì)，采用了lo-ray-ligh衍射光柵，擁有卓越的光學(xué)特性，超快掃描速度和高測(cè)光重復(fù)性等性能。全新彩色觸摸屏設(shè)計(jì)帶來(lái)用戶友好新體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-13
單單色器uv-2600i測(cè)定波長(zhǎng)范圍延伸至1400nm配置單單色器系統(tǒng)，通過(guò)低噪音實(shí)現(xiàn)寬波長(zhǎng)范圍可進(jìn)行近紅外波長(zhǎng)測(cè)定（最長(zhǎng)1400nm）*雙單色器uv-2700i實(shí)現(xiàn)8abs測(cè)光范圍配置超低雜散光的雙單色器系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)8abs測(cè)定使用lo-ray-ligh等級(jí)衍射光柵，實(shí)現(xiàn)超低雜散光外形更緊湊及用戶友好界面與島津原機(jī)型相比，450mm外形寬度，節(jié)省安裝空間28%與島津原機(jī)型相比，節(jié)能10%標(biāo)配硬
更新時(shí)間:2025-06-13
uv-3600plusuv-vis-nir分光光度計(jì)作為高端uv-vis-nir分光光度計(jì)中產(chǎn)品一覽中新的補(bǔ)充型模型。
更新時(shí)間:2025-06-13
技術(shù)參數(shù)1.x射線發(fā)生器功率為3kw2.測(cè)角儀為水平測(cè)角儀3.測(cè)角儀最小步進(jìn)為1/10000度4.測(cè)角儀配程序式可變狹縫5.高反射效率的石墨單色器6.cbo交叉光路，提供聚焦光路及高強(qiáng)度高分辨平行光路（帶mirror）（理學(xué)獨(dú)有）7.小角散射測(cè)試組件8.多用途薄膜測(cè)試組件9.微區(qū)測(cè)試組件10.in-plane測(cè)試組件（理學(xué)獨(dú)有）11.高速探測(cè)器d/tex-ultra12.x
更新時(shí)間:2025-06-13
主要特點(diǎn)■直接傳動(dòng)高精度轉(zhuǎn)矩馬達(dá)與優(yōu)良的光學(xué)編碼器相結(jié)合，確保了儀器的傳動(dòng)速度和精度；■全部組件可以拆分為7個(gè)模塊，同時(shí)可以在5個(gè)獨(dú)立自由度上檢測(cè)樣品，適用于粉末、薄膜和塊狀樣品；■可以進(jìn)行常規(guī)的晶相識(shí)別和定量，可以分析晶體尺寸、晶格應(yīng)變及結(jié)晶度的計(jì)算；■可以定量分析殘余奧氏體、多晶物篩查、晶體結(jié)構(gòu)分析、殘余應(yīng)力分析、薄膜分析、深度剖析、相變紋理和優(yōu)先取向、納米粒子分析；■光學(xué)系統(tǒng)可以在
更新時(shí)間:2025-06-13
奧林巴斯便攜式terra?iix射線衍射儀（xrd）奧林巴斯便攜式terra?iix射線衍射儀可直接對(duì)主要和次要成分進(jìn)行實(shí)時(shí)、快速、可靠的定量礦物學(xué)和物相分析。
更新時(shí)間:2025-06-13
hermoscientificarlequinox3000型粉末x射線衍射儀配備獨(dú)有的弧形探測(cè)器，可同時(shí)測(cè)量所有角度的衍射峰，因此相比其它衍射儀測(cè)試速度更快。這種實(shí)時(shí)采集方式，十分適用于動(dòng)態(tài)研究。
更新時(shí)間:2025-06-13
技術(shù)指標(biāo)：●theta/theta立式測(cè)角儀●2theta角度范圍：-110~168●角度精度：0.0001度●cr/co/cu靶，標(biāo)準(zhǔn)尺寸光管●探測(cè)器：林克斯陣
更新時(shí)間:2025-06-13
納光電化學(xué)系列產(chǎn)品的型號(hào)：cimps-1cimps-2zennium電化學(xué)工作站xpot外置恒電位儀(500ma，10v)epc42控制模塊光具座，傳感器，光感放大反饋系統(tǒng)cimps及thales軟件。
更新時(shí)間:2025-06-13
技術(shù)參數(shù)：zui大電流：800mazui大輸出電壓：10v施加電位范圍：-10v-+10v施加電位精度：0.2%或1mv電流范圍：1pa-1a測(cè)量電流分辨率：所選電流范圍的0.00006%，zui小0.6aa。施加電流分辨率：0.00013%施加電流精度：0.2%電位范圍：1mv，10mv，100mv，1v，10v測(cè)量電位分辨率：所選電位范圍的0.00001%，zui小0.07nv
更新時(shí)間:2025-06-13
技術(shù)參數(shù)：■電流量程：1na-400ma（76fa分辨率），支持2.4a脈沖電流■電壓范圍：+/-10v、0-20v■分辨率：300μv（調(diào)節(jié)動(dòng)態(tài)范圍可達(dá)5μv）■數(shù)據(jù)采集速率：200,000點(diǎn)/秒■在工作電極和輔助電極間同時(shí)進(jìn)行eis測(cè)量■支持多個(gè)工作電極共用一套輔助電極和參比電極升級(jí)選項(xiàng)■每個(gè)通道上的eis頻率范圍為10μhz到1mhz■低電流選項(xiàng)（1na）■5個(gè)獨(dú)立的通
更新時(shí)間:2025-06-13
zenniumxc型號(hào)電化學(xué)工作站主要技術(shù)參數(shù)：adc分辨率32bitsadc,5aa交流阻抗頻率范圍10μhz--5mhz頻率精度0.0025%頻率分辨率0.0025%，10000steps/decade電流2a應(yīng)用電位范圍5v/14v電壓分辨率2.5nv/7.5nv輸入阻抗10tω,hiz（option):1000tω交流阻抗測(cè)試精度0
更新時(shí)間:2025-06-13
荷蘭ivium推出的vertex電化學(xué)工作站，有多種不同型號(hào)，可選交流阻抗功能。vertex作為經(jīng)濟(jì)型電化學(xué)工作站，有著極具性價(jià)比的價(jià)格，在教學(xué)，電池，燃料電池，傳感器，生物技術(shù)，腐蝕等領(lǐng)域有著良好的應(yīng)用。vertex型號(hào)：vertex.100ma.dcvertex.100ma.eisvertex.1a.dcvertex.1a.eisvertex.5a.dcvertex.5a.eisvertex
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zenniumpro型號(hào)電化學(xué)工作站主要技術(shù)參數(shù)：恒電位儀整體帶寬10mhzeis頻率范圍10μhz-8mhz頻率精度0.0025%頻率分辨率0.0025%，10000steps/decade交流振幅范圍0-6v阻抗測(cè)試精度1mωto10gω/2%，100mωto10mω/0.2%輸入阻抗>10tω|
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gamryreference600+技術(shù)優(yōu)勢(shì)：(1)電流分辨率高，20aa，有實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)證實(shí)。低電流到pa。(2)儀器的背景電流小，<2μvrms。(3)儀器的高阻抗測(cè)試/低阻抗測(cè)試性能好，100tohm，0.1mohm等。(4)軟件友好，容易學(xué)習(xí)，和功能全；可以擴(kuò)展任何需要的電化學(xué)測(cè)量。(5)再加一臺(tái)儀器，可以和secm,imps/imvs等兼容。(6)和ra
更新時(shí)間:2025-06-13
準(zhǔn)分子激光器：7x200準(zhǔn)分子激光器是傳統(tǒng)的氣體激光器，由于波長(zhǎng)短（紫外），短脈沖寬度，高脈沖能量，是激光器家族不可替代的品種！應(yīng)用上，準(zhǔn)分子激光器在脈沖沉積鍍膜（pld），光纖光柵刻寫，lasik，光刻，微納加工等方面占主導(dǎo)的地位。
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