其它產(chǎn)品及廠家

真空無(wú)氧烘箱,高溫?zé)o氧真空烤箱
真空無(wú)氧烘箱,高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化,鍵合材料預(yù)處理,ito膜退火,pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2025-12-13
智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱、厭氧潔凈烘箱
智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無(wú)塵烘干的特殊工藝要求,適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).用于企業(yè)生產(chǎn)、科研或高校實(shí)驗(yàn)室等工藝。
更新時(shí)間:2025-12-13
200kg黑蒜機(jī),Black garlic machine
200kg黑蒜機(jī),black garlic machine,the black garlic fermentation equipment adopts the enzymatic reaction fermentation black garlic processing method, and the enzymatic fermentation is continuously carried
更新時(shí)間:2025-12-13
高溫?zé)o氧化烤箱,半導(dǎo)體制程烤箱
高溫?zé)o氧化烤箱,半導(dǎo)體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為:膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分,膛體腔,內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì),風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成,膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2025-12-13
智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)#2023價(jià)格已更新
智能型hmds烘箱,全自動(dòng)hmds預(yù)處理系統(tǒng)預(yù)處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能;,有可自動(dòng)吸取添加hmds功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-12-13
蒸汽老化試驗(yàn)機(jī),半導(dǎo)體蒸汽老化測(cè)試儀
蒸汽老化試驗(yàn)機(jī),半導(dǎo)體蒸汽老化測(cè)試儀適用于電子連接器、半導(dǎo)體ic、晶體管、二極管、液晶lcd、芯片電阻電容、零組件產(chǎn)業(yè)電子零組件金屬接腳沾錫性試驗(yàn)前的老化加速壽命時(shí)間試驗(yàn);半導(dǎo)體、被動(dòng)組件、零件接腳氧化試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-13
LED氣相成底膜處理系統(tǒng),氣相成底膜真空烘箱
led氣相成底膜處理系統(tǒng),氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個(gè)集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進(jìn)行,這種方法可以實(shí)現(xiàn)批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮?dú)庾鳛檩d氣將hmds蒸氣通入腔室中,達(dá)到預(yù)先設(shè)定的壓力對(duì)晶片進(jìn)行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮?dú)獾匠。js-hmds預(yù)處理系統(tǒng)對(duì)預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、工作真空度、處理時(shí)間、處理時(shí)
更新時(shí)間:2025-12-13
勻膠機(jī),可程式勻膠機(jī)2023已更新(每日/實(shí)時(shí))
勻膠機(jī),可程式勻膠機(jī)用于半導(dǎo)體硅片,載玻片,晶片,基片,ito導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn),并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時(shí)間:2025-12-13
硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻 的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì) 侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕 容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
更新時(shí)間:2025-12-13
HMDS涂膠系統(tǒng),HMDS涂膠烤箱
hmds涂膠系統(tǒng),hmds涂膠烤箱
更新時(shí)間:2025-12-13
無(wú)氧烘箱,智能雙層無(wú)氧烘箱的詳細(xì)說(shuō)明書@技術(shù)發(fā)布
無(wú)氧烘箱,智能雙層無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升溫環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求,
更新時(shí)間:2025-12-13
抗粘劑蒸鍍機(jī),抗粘層鍍膜機(jī)的行業(yè)應(yīng)用@技術(shù)新聞
抗粘劑蒸鍍機(jī),抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層,抗黏層般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。
更新時(shí)間:2025-12-13
無(wú)氧烘箱,智能雙層無(wú)氧烘箱
無(wú)氧烘箱,智能雙層無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升溫環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求,
更新時(shí)間:2025-12-13
真空鍍膜機(jī),脫模劑烤箱
真空鍍膜機(jī),脫模劑烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、電子行業(yè),硅片、石英等納米壓印模板材料
更新時(shí)間:2025-12-13
PI膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體PI固化爐
pi膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)中的半導(dǎo)體器件表面的保護(hù)、密封、應(yīng)力緩沖保護(hù)和半導(dǎo)體器件表面鈍化、內(nèi)涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料,對(duì)改善器件性能、提高器件可靠性,具有防潮、防金屬離子遷移、防污染,降低漏電流,同時(shí)對(duì)器件的引線、焊點(diǎn)等薄弱部位具有增固加強(qiáng)的作用。所以,pi的固化工藝非常重要。
更新時(shí)間:2025-12-13
HMDS預(yù)處理系統(tǒng),晶圓HMDS烤箱
hmds預(yù)處理系統(tǒng),晶圓hmds烤箱 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
更新時(shí)間:2025-12-13
真空無(wú)氧烘箱,高溫?zé)o氧真空烤箱2023已更新報(bào)價(jià)
真空無(wú)氧烘箱,高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化,鍵合材料預(yù)處理,ito膜退火,pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2025-12-13
HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)
hmds鍍膜烤箱,hmds真空鍍膜系統(tǒng)預(yù)處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能;,有可自動(dòng)吸取添加hmds功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-12-13
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑PFTS真空烘箱的詳細(xì)說(shuō)明書@技術(shù)發(fā)布
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻(nil)應(yīng)用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠;以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-12-13
晶圓烤箱,超潔凈烤箱
晶圓烤箱,超潔凈烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧烤箱主要用于:ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-12-13
PCT高壓老化試驗(yàn)機(jī),半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱
pct高壓老化試驗(yàn)機(jī),半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱是利用加壓的飽和蒸汽對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行加速老化的設(shè)備,適用于電子,表面處理,磁性材料,ic,半導(dǎo)體,pcb,包裝材料等各個(gè)相關(guān)行業(yè)使用。
更新時(shí)間:2025-12-13
HMDS pretreatment system, HMDS oven
hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.
更新時(shí)間:2025-12-13
PI固化專用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐
pi固化專用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時(shí)需要注意的問(wèn)題是厚度控制和亞胺化處理。
更新時(shí)間:2025-12-13
PI固化用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐2023動(dòng)態(tài)已更新《新品/推薦》
pi固化用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時(shí)需要注意的問(wèn)題是厚度控制和亞胺化處理。
更新時(shí)間:2025-12-13
脫模劑蒸鍍機(jī),脫模劑鍍膜烤箱
脫模劑蒸鍍機(jī),脫模劑鍍膜烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體,光電、電子行業(yè)硅片、砂紙或石英硬模板等材料。
更新時(shí)間:2025-12-13
軟烘烤箱,硅片烤箱
軟烘烤箱,硅片烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧烤箱主要用于:晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤,ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-12-13
LED專用烤箱,LED光電烤箱
led專用烤箱,led光電烤箱四門精密烤箱采用獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),外形美觀,內(nèi)部結(jié)構(gòu)合理。外殼采用1.5mm厚冷軋鋼板折彎而成,表面高溫噴塑烤漆處理(環(huán)保戶外粉),耐腐蝕,防生銹,烤箱上下平均分成四層,每層配有獨(dú)立打開的小門,每層烤箱門板上裝有壹個(gè)拉手,方便每層托盤可獨(dú)立拿出,門邊四條, 使?fàn)t外溫度不燙手。
更新時(shí)間:2025-12-13
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑PFTS真空烘箱
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī),抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻(nil)應(yīng)用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠;以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-12-13
霍爾效應(yīng)實(shí)驗(yàn)儀高低溫磁場(chǎng)型測(cè)試系統(tǒng)
霍爾效應(yīng)實(shí)驗(yàn)儀高低溫磁場(chǎng)型測(cè)試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)系統(tǒng)軟件:?可數(shù)字化調(diào)節(jié)磁場(chǎng)及電流,測(cè)試各類材料參數(shù)
更新時(shí)間:2025-12-13
單軸亥姆霍茲線圈二維實(shí)驗(yàn)室電磁線圈
單軸亥姆霍茲線圈二維實(shí)驗(yàn)室電磁線圈其主要用途有:地球磁場(chǎng)的抵消、判定磁屏蔽效應(yīng)、電子設(shè)備的磁化系數(shù)、磁通門計(jì)和航海設(shè)備的校準(zhǔn)、生物磁場(chǎng)的研究等
更新時(shí)間:2025-12-13
定制電磁鐵實(shí)驗(yàn)室磁力設(shè)備磁特性研究裝置
定制電磁鐵實(shí)驗(yàn)室磁力設(shè)備磁特性研究裝置同時(shí)若與北京錦正茂自主研發(fā)的高精度雙性恒流電源( 10ppm)相匹配,可以組成一套多功能實(shí)驗(yàn)室磁場(chǎng)發(fā)生系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)中,通過(guò)真正的雙性恒流電源輸出,可以實(shí)現(xiàn)快速均勻的磁場(chǎng)掃描以及磁場(chǎng)換向,從而避免在使用非連續(xù)性電源時(shí)出現(xiàn)過(guò)零反轉(zhuǎn)的磁場(chǎng)突變問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)真正的零磁場(chǎng)。
更新時(shí)間:2025-12-13
錦正茂科技磁性材料測(cè)量系統(tǒng)振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)
錦正茂直銷磁性材料測(cè)量系統(tǒng)振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)測(cè)量磁矩范圍(磁間距30mm時(shí)):1*10-3emu—300emu(靈敏度:5×10-5emu);穩(wěn)定性(量程30emu時(shí)):連續(xù)4小時(shí)工作優(yōu)于1%。
更新時(shí)間:2025-12-13
一維亥姆霍茲線圈實(shí)驗(yàn)室磁場(chǎng)發(fā)生器電磁線圈
一維亥姆霍茲線圈實(shí)驗(yàn)室磁場(chǎng)發(fā)生器電磁線圈適用于各研究所,*等院校及企業(yè)做物質(zhì)磁性或檢測(cè)實(shí)驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-13
全自動(dòng)化電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)磁阻測(cè)試
全自動(dòng)化電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)磁阻測(cè)試可以進(jìn)行霍爾效應(yīng)、r-h特性、r-t特性和i-v特性的測(cè)量,可得出參數(shù):方塊電阻、電阻率、霍爾系數(shù)、霍爾遷移率、載流子濃度和導(dǎo)電類型
更新時(shí)間:2025-12-13
一維亥姆霍茲線圈均勻磁場(chǎng)科研實(shí)驗(yàn)磁場(chǎng)線圈
一維亥姆霍茲線圈均勻磁場(chǎng)科研實(shí)驗(yàn)磁場(chǎng)線圈適用于各研究所,高等院校及企業(yè)做物質(zhì)磁性或檢測(cè)實(shí)驗(yàn),應(yīng)用于材料、電子、生物、醫(yī)療、航空航天等域。
更新時(shí)間:2025-12-13
錦正茂霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)低溫型測(cè)量?jī)x
錦正茂霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)低溫型測(cè)量?jī)x為本儀器系統(tǒng)門研制的 jh10 效應(yīng)儀將恒流源,六位半微伏表及霍爾測(cè)量復(fù)雜的切換繼電器——開關(guān)組裝成一體,大大減化了實(shí)驗(yàn)的連線與操作。
更新時(shí)間:2025-12-13
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)磁學(xué)測(cè)量?jī)x器
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)磁學(xué)測(cè)量?jī)x器可測(cè)試材料:記錄磁頭,磁性薄膜,特殊磁介質(zhì),磁場(chǎng)傳感器 。
更新時(shí)間:2025-12-13
電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量系統(tǒng)霍爾效應(yīng)測(cè)試電阻測(cè)量?jī)x器
電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量系統(tǒng)霍爾效應(yīng) 電阻測(cè)量?jī)x器使用插入式樣品卡,樣品安裝方便,同時(shí)提供四探針卡,免去制作電的麻煩。
更新時(shí)間:2025-12-13
定制電磁鐵型自動(dòng)化霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)
定制電磁鐵型自動(dòng)化霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)測(cè)試系統(tǒng)軟件:定位采集,數(shù)字溫度顯示,i-v,曲線及 i-r 曲線測(cè)量,得到體載,流子濃度等各類參數(shù)曲線圖形。
更新時(shí)間:2025-12-13
亥姆霍茲線圈實(shí)驗(yàn)室磁力線圈梯度磁場(chǎng)發(fā)生器
亥姆霍茲線圈實(shí)驗(yàn)室磁力線圈梯度磁場(chǎng)發(fā)生器亥姆霍茲線圈可根據(jù)不同的應(yīng)用產(chǎn)生靜態(tài)dc或ac磁場(chǎng)。
更新時(shí)間:2025-12-13
錦正茂VSM振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)磁性測(cè)量?jī)x器
錦正茂vsm振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)磁性測(cè)量?jī)x器vsm振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)可測(cè)量磁性材料的基本磁性能,得到相應(yīng)的各種磁學(xué)參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-12-13
EM系列電磁鐵直流磁場(chǎng)發(fā)生器 磁效應(yīng)實(shí)驗(yàn)
em系列大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)電磁鐵直流磁場(chǎng)發(fā)生器電磁鐵采用自然冷卻結(jié)構(gòu),當(dāng)磁間距為20mm,磁場(chǎng)≥1.0t時(shí),持續(xù)工作時(shí)間30分鐘,溫升小于30℃
更新時(shí)間:2025-12-13
電輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量系統(tǒng)霍爾效應(yīng)測(cè)試、磁阻測(cè)試、變溫電阻測(cè)試材料測(cè)試系統(tǒng)
電輸運(yùn) 霍爾效應(yīng)測(cè)試磁阻變溫電阻測(cè)試系統(tǒng)提供長(zhǎng)時(shí)間高穩(wěn)定性的磁場(chǎng),24小時(shí)穩(wěn)定性<±0.5g,并且磁場(chǎng)能夠平滑過(guò)零。
更新時(shí)間:2025-12-13
變溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀高低溫磁場(chǎng)型0.1GS分辨
變溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀高低溫磁場(chǎng)型0.1gs分辨實(shí)驗(yàn)結(jié)果由軟件自動(dòng)計(jì)算得到,可同時(shí)得到體載流子濃度(bulk carrier oncentration)、表面載流子濃度(sheet carrier concentration)、遷移率(mobility)、電阻率(resistivity)、霍爾系數(shù)(hall coefficient)、磁致電阻(magnetoresistance)等。
更新時(shí)間:2025-12-13
亥姆霍茲線圈 JM298-3 交直流磁場(chǎng)控制系統(tǒng)
亥姆霍茲線圈脈沖磁場(chǎng)發(fā)生器均勻磁場(chǎng)線圈可為您提供一維,二維和三維的亥姆霍茲線圈。
更新時(shí)間:2025-12-13
材料進(jìn)行電輸運(yùn)性質(zhì)研究實(shí)驗(yàn)室物性測(cè)試系統(tǒng)
電阻測(cè)量范圍寬:100nω(低電阻選件)~ 100gω(高阻系統(tǒng));使用插入式樣品卡,樣品安裝方便,同時(shí)提供四探針卡,免去制作電的麻煩
更新時(shí)間:2025-12-13
亥姆霍茲線圈實(shí)驗(yàn)室一維梯度線圈勵(lì)磁 亞克力材質(zhì)
地球磁場(chǎng)的抵消、判定磁屏蔽效應(yīng)、電子設(shè)備的磁化系數(shù)、磁通門計(jì)和航海設(shè)備的校準(zhǔn)、生物磁場(chǎng)的研究及與磁通計(jì)配合使用檢測(cè)永磁體特性。
更新時(shí)間:2025-12-13
磁光克爾效應(yīng)測(cè)量?jī)x器實(shí)驗(yàn)室物性測(cè)量系統(tǒng)
手動(dòng)左右和上下位移樣品,可測(cè)試樣品表面不同點(diǎn)的克爾效應(yīng)
更新時(shí)間:2025-12-13

最新產(chǎn)品

熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)(PH計(jì)) 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑