涂膠顯影設備產(chǎn)品及廠家

供應 BX-2蠕動式點膠機—上海統(tǒng)業(yè)快干膠點膠機設備
bx-2蠕動式點膠機，最適用于各種流動性好的快干膠、瞬間膠及流體的點膠設備。
更新時間:2025-12-10
全自動精密點膠機
應用行業(yè)：應用于電子行業(yè)pcb電子零配件固定及保護、手機、筆記本外殼粘接、lcd玻璃、led點膠、光學鏡頭點膠與封裝、汽車零配件、五金零部件實現(xiàn)粘接固定作用。
更新時間:2025-12-10
蠕動式點膠機，速干膠點膠機，厭氧膠水點膠機設備
適用于各種流動性好的快干膠、瞬間膠及流體。
更新時間:2025-12-10
表面疏水處理設備 材料超疏水性處理系統(tǒng) 自動化HMDS預處理機
表面疏水處理設備 材料超疏水性處理系統(tǒng) 自動化hmds預處理機是一種改善物體表面性質的技術，使其具有疏水性，即不易被液體濕潤。通過表面疏水處理，物體表面會形成一層特殊的涂層或納米結構，使液體在接觸物體表面時形成球狀滾落，減少與物體表面的接觸面積，從而達到減少粘附、抗污染、抗腐蝕等目的。
更新時間:2025-12-10
原裝進口P+F閥門連接器
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經(jīng)過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-11-17
西班牙intecprocess涂膠設備
西班牙intecprocess， 是一家設計和配置聚氨酯、環(huán)氧樹脂、硅樹脂和其他類型的膠粘劑和粘合劑 1k 或 2k 的設備和系統(tǒng)的公司。產(chǎn)品用于手動或自動工業(yè)過程，為客戶提供自動應用系統(tǒng)和 2 組分產(chǎn)品混合配料方面的新方案。
更新時間:2025-09-27
星型全自動涂膠顯影機
ks-s150星型全自動涂膠顯影機用于led-pss工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{寶石、砷化鎵和碳化硅等材質的晶圓，產(chǎn)品涉及多個應用域，涂膠機產(chǎn)能大于190片/小時。設備通過了csa認證。
更新時間:2025-09-09
涂膠顯影半自動機臺
ks-m300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時手動上下片，工藝過程可自動完成。
更新時間:2025-09-09
12寸噴霧式涂膠機
ks-s300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣，避免溝槽堆積，節(jié)省光刻膠；同時針對輕薄易碎的襯底，承片臺靜態(tài)噴霧式涂膠可以避免襯底在高速旋轉時碎裂的風險。產(chǎn)品可應用于封裝、微機電系統(tǒng)制造等域。該產(chǎn)品已通過semi s2認證。
更新時間:2025-09-09
12寸 集束型涂膠顯影機
ks-c300涂膠顯影機可用于封裝、 mems、oled等域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產(chǎn)品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物等。產(chǎn)品可應用于邏輯類、存儲類芯片、攝像頭芯片、功率器件芯片、oled制造等域。國產(chǎn)化集成電路設備的成功應用為客戶節(jié)約了大量成本。產(chǎn)品通過semi s2認證。
更新時間:2025-09-09
涂膠顯影機
ks-ft200/300系列堆疊式高產(chǎn)能道涂膠顯影機，為芯源自主研發(fā)的突破晶圓道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程，適用于arf、krf、i-line、pi、barc，soc，sod，sog等多種材料涂覆顯影工藝的機臺。支持與光刻機聯(lián)機作業(yè)。該系列機臺通過各種行業(yè)認證，占地面積小、可靠性高、易于維護，滿足各種功能芯片制程需求。
更新時間:2025-09-09
鈣鈦礦用涂膜機
鈣鈦礦用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性?？蛇x配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時間:2025-09-09
全封閉式桌面顯影機
鈣鈦礦用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性?？蛇x配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時間:2025-09-09
高溫型烤膠機
hp100-ht-ctm高溫型烤膠機，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨立電路，隔熱設計，安全耐用，高溫均勻，適合精密實驗。
更新時間:2025-09-09
精密型烤膠機
hp6精密型烤膠機，全鋁機身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
更新時間:2025-09-09
程控烤膠機
lebo science hp100-se程控烤膠機，7寸觸屏plc控，硬質陽氧化鋁面板，優(yōu)異性能，業(yè)服務，實驗理想之選。
更新時間:2025-09-09
控溫型勻膠機
控溫型勻膠機，性能優(yōu)秀，業(yè)服務，高品質材料，安全設計，桌面實驗理想選擇，為科學儀器域的優(yōu)選產(chǎn)品
更新時間:2025-09-09
涂膠顯影機
適用尺寸：用于4~6寸圓片顯影，涂膠。采用plc控制方式，性能更穩(wěn)定，故障率只有原機型的10%，維修更方便；增加了手動功能，可以單步偵測每個單元的動作。人機界面采用觸摸屏，全中文界面，友好，易學，小學文化簡單培訓就可以上機操作。主體電機采用飼服和步進，穩(wěn)定可靠，減少備件消耗，不產(chǎn)生顆粒。
更新時間:2024-11-12
全自動涂膠機
fx88全自動涂膠機適用于4~6英寸晶圓的涂膠和涂源。設備全自動上下片，全自動定中心，全自動滴膠，全自動烘烤。
更新時間:2024-10-24
PCD3012B低諧波高功充因數(shù)分段線性恒流LED控制芯片
pcd 3012b 是一款五段低 pcd 3012b 是一款五段低 thd 、高功率因數(shù) led 線性恒流控制芯片，芯片集成了 700v 高壓 mosfet ，采用獨特創(chuàng)新的器件工藝技術，具有優(yōu)越的抗雪崩擊穿及浪涌能力，在無保護器件時可通過650v 雷擊浪涌測試，內置過溫保護功能，提升系統(tǒng)應用可靠性?？赏ㄟ^調節(jié)rext 電阻值對輸出電流進行調節(jié)。同時pcd3012b 集成了輸入線電壓補償功能， 在
更新時間:2024-05-23
全自動顯影機
本機采用plc控制，性能更穩(wěn)定，故障率低，維修更方便；增加了手動功能，可以單步偵測每個單元的動作。人機界面采用觸摸屏， 全中文界面，友好，易學，簡單培訓就可以上機操作。主體電機采用飼服和步進，穩(wěn)定可靠，不產(chǎn)生顆粒。噴頭采用雙流體實心錐噴頭，高效省液。液盤采用ptfe底座和不銹鋼外殼，不會變形，易清理。
更新時間:2024-01-24
Laurell 勻膠旋涂儀
laurell勻膠旋涂儀 ws-650mz-23nppb 技術參數(shù)：（1）腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；（2）wafer芯片尺寸：10-150mm直徑圓片，方片125x125mm；（3）轉動速度：100-12,000rpm；（4）旋涂加速度：1-12000rpm/sec（空載）；（5）馬達旋涂轉速：穩(wěn)定性能誤差<± 1 %；
更新時間:2023-08-03
POLOS Advanced系列濕法刻蝕處理系統(tǒng)
濕法刻蝕處理系統(tǒng)又稱自動顯影系統(tǒng)、自動刻蝕系統(tǒng)、自動去離子水清洗系統(tǒng)、顯影刻蝕系統(tǒng)、勻膠顯影機、自動刻蝕機、顯影刻蝕機、顯影臺、濕法刻蝕臺、顯影刻蝕臺等。polos advanced系列濕法處理系統(tǒng)可實現(xiàn)涂膠、刻蝕、顯影、清洗等多種工藝，適用于半導體、化工材料、硅片、導電玻璃等制版的表面顯影。
更新時間:2023-08-03

最新產(chǎn)品
熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質 生物試劑