sem 與 afm 是亞納米樣品分析中應(yīng)用廣泛且互補(bǔ)的兩大技術(shù)。將 afm 集成至 sem 中可融合兩者的優(yōu)勢,實(shí)現(xiàn)超高效工作流程,完成傳統(tǒng) afm 和 sem 難以或無法實(shí)現(xiàn)的限性能和復(fù)雜樣品分析。
alpha300 ra –在一個系統(tǒng)里面集成化學(xué)成分分析和納米級別的結(jié)構(gòu)成像alpha300 ra 是市場上首個高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng),可以在標(biāo)準(zhǔn)的alpha 300r共聚焦拉曼系統(tǒng)上通過標(biāo)準(zhǔn)模塊升級即可完成拉曼原子力系統(tǒng)聯(lián)用,獲得原位的afm和raman圖像的疊加。alpha300 ra 獨(dú)特的設(shè)計(jì)理念使聯(lián)用系統(tǒng)既保留300r強(qiáng)大的化學(xué)組分分析能力,同時加入微納級別的表面形貌等特性的分析能力,使研究者能對樣品進(jìn)行深度完善的分析和理解。
lumina at1可以在4分鐘內(nèi)完成150毫米晶圓的掃描,對于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底,如玻璃,化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨(dú)特的優(yōu)勢。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。大樣品300 x 300 mm。
lumina at2可以在3分鐘內(nèi)完成300毫米晶圓的掃描,對于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底,如玻璃,化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨(dú)特的優(yōu)勢。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。大樣品300 x 300 mm。
lumina at2-efem可以在2分鐘內(nèi)完成300毫米晶圓的掃描,對于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底,如玻璃,化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨(dú)特的優(yōu)勢。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。大樣品300 x 300 mm。