等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
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更新時(shí)間:2025-06-05
上海到西寧搬家2019直達(dá)專線 上海本耐物流主要經(jīng)營上海至西寧公路、鐵路、往返貨物運(yùn)輸業(yè)務(wù)，，同時(shí)提供超貨物包裝及現(xiàn)化倉儲、物流服務(wù)。本耐物流中心上海本耐物流中心是經(jīng)上海市，主要經(jīng)營上海到西寧中小城市公路、零擔(dān)貨物運(yùn)輸，集倉儲包裝、。
更新時(shí)間:2025-06-05
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更新時(shí)間:2025-06-05
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更新時(shí)間:2025-06-05
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更新時(shí)間:2025-06-05
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更新時(shí)間:2025-06-05
上海到石嘴山物流公司 從上海貨運(yùn)到石嘴山需要多少錢？貨運(yùn)公司哪家好?推薦石嘴山物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風(fēng)雨無阻，公司專業(yè)承接；
更新時(shí)間:2025-06-05
等離子樣品清洗設(shè)備evactron e50可以安裝在電鏡交換倉或樣品室內(nèi)，利用等離子體進(jìn)行清洗，也可以用紫外線進(jìn)行清洗，無需切換到低真空模式即可使用，射頻功率高達(dá)50w，清洗效率高。
更新時(shí)間:2025-06-05
美國pie等離子清洗機(jī)tergeo系列臺式全自動等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能，可用來清潔納米樣品，去除光刻膠，清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤，進(jìn)行煤和有機(jī)物的灰化，激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團(tuán)，獲得表面親水性，提高鍵合強(qiáng)度和可印刷性，促進(jìn)醫(yī)療器械生物相容性。
更新時(shí)間:2025-06-03
美國pie等離子清洗機(jī)tergeo系列臺式全自動等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能，可用來清潔納米樣品，去除光刻膠，清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤，進(jìn)行煤和有機(jī)物的灰化，激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團(tuán)，獲得表面親水性，提高鍵合強(qiáng)度和可印刷性，促進(jìn)醫(yī)療器械生物相容性。
更新時(shí)間:2025-06-03
來自美國pie scientific出品的等離子清潔儀基本型材料表面處理儀，可以用來清潔納米樣品、蝕刻光刻膠、激活聚合物表面功能團(tuán)、獲得親水或疏水性，增強(qiáng)粘合強(qiáng)度以及可印染性、促進(jìn)醫(yī)學(xué)器件生物相容性。
更新時(shí)間:2025-06-03
等離子清洗機(jī)是一款門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面，達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。
更新時(shí)間:2025-06-03
等離子清洗機(jī)pt1000plasmatreatmentequipment等離子清洗機(jī)是一款門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面
更新時(shí)間:2025-06-03
mycro邁可諾公司提供原裝進(jìn)口等離子清洗機(jī)/表面處理儀/ppc微波等離子清洗機(jī)，請您放心選購！ppc862plasma-preenii862ppc973plasma-preenii973等離子清洗機(jī)又稱等離子體清洗機(jī)，臺式微波等離子清洗機(jī)，ppc等離子清洗機(jī)，水冷式ppe等離子蝕刻機(jī)，圓筒型ppc等離子清洗機(jī)，plasma-preen等離子清洗
更新時(shí)間:2025-06-03
harrick plasma是國際一流的等離子清洗器生產(chǎn)商，在業(yè)內(nèi)已經(jīng)有三十多年的經(jīng)驗(yàn)。他所生產(chǎn)的小型等離子清洗器結(jié)構(gòu)緊湊、質(zhì)量可靠、價(jià)格合理；廣泛地被大中院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)研發(fā)機(jī)構(gòu)和實(shí)驗(yàn)室采用。其產(chǎn)品主要應(yīng)用在材料科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)藥材料學(xué)、微流體研究、微電子機(jī)械系統(tǒng)研究、光學(xué)、顯微術(shù)、牙科醫(yī)療等領(lǐng)域中的污染物清除、表面活化、粘合前處理、表面化學(xué)改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。
更新時(shí)間:2025-06-03
harrick plasma公司的等離子清洗器是一種小型化、非破壞性的超清洗設(shè)備。等離子清洗器采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級。
更新時(shí)間:2025-06-03
pie scientific注研發(fā)先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強(qiáng)沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導(dǎo)體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟(jì)實(shí)用的實(shí)驗(yàn)室用等離子儀器。來自美國pie scientific出品的小型臺式等離子清潔儀，可以用來清潔納米樣品、蝕刻光刻膠、激活聚合物表面功能團(tuán)、獲
更新時(shí)間:2025-06-03
電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)是普勒新世紀(jì)實(shí)驗(yàn)按照普洛帝分析儀器事業(yè)部的規(guī)劃，于2001年推向市場的成熟系統(tǒng)儀器；觀察顆粒形貌，還可以得到粒度分布、數(shù)量、大小、平均長徑比以及長徑比分布等，為科研、生產(chǎn)域增添了一種新的粒度測試手段；電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)為一種圖像法粒度分布測試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括光學(xué)顯微鏡、圖像測試。
更新時(shí)間:2025-05-24
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2025-05-22
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時(shí)間:2025-05-14
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時(shí)間:2025-05-14
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時(shí)間:2025-05-14
日本yamato等離子清洗機(jī)pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機(jī)膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗(yàn)的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2025-05-14
spk-500s 寬幅等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時(shí)間:2025-05-13
vps-rf05是一款小型桌面型真空等離子處理儀，其原理是在真空狀態(tài)下（約10~100pa），給氣體施加電場，氣體在電場提供的能量下會由氣態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子體狀態(tài)（也稱物質(zhì)的“第四態(tài)”），其中含有大量的電子、離子、光子和各類自由基等活性粒子，比通常的化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性更強(qiáng)，更易于和所接觸的材料表面發(fā)生反應(yīng)。
更新時(shí)間:2025-05-12
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-04-14
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-04-14
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-04-14
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-04-14
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-04-14
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-04-14
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-04-14
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-04-14
等離子清洗機(jī)kt-s2dqx,用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150w 13.56mhz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、pcb制程、pcb制程、元器件封裝、cog、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。
更新時(shí)間:2025-04-03
等離子去膠機(jī)kt-s2dqx能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。本產(chǎn)品配備觸摸屏控制，操作更便捷，更智能。
更新時(shí)間:2025-04-03
旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機(jī)kt-g1dqx主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用“達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
更新時(shí)間:2025-04-03
滾筒等離子清洗機(jī)kt-g1dqx主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。此款等離子清洗機(jī)針對粉末或者顆粒的360度表面處理設(shè)備，通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達(dá)到360度清洗。
更新時(shí)間:2025-04-03
等離子清洗機(jī)刻蝕機(jī)kt-s2dqx利用等離子清洗機(jī)對包裝盒子或玻璃瓶體進(jìn)行預(yù)處理，在包裝或瓶體貼標(biāo)簽過程中，經(jīng)過預(yù)處理后，可采用價(jià)格低廉、無環(huán)境污染的水膠。 kt-s2dqx配備了觸摸屏，產(chǎn)品多功能，智能，簡單。
更新時(shí)間:2025-04-03
等離子清洗機(jī)去膠機(jī)器kt-s2dqx在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達(dá)到清洗目的．
更新時(shí)間:2025-04-03
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