清洗機產(chǎn)品及廠家

清洗劑val-texVF-CTN100g/瓶閥門清洗液
valtex成立于1962年，是一家閥門維修和公司;閥門維修產(chǎn)品;和現(xiàn)場服務(wù)。vali - tex在1974年改變了業(yè)務(wù)戰(zhàn)略，只專注于閥門維修產(chǎn)品，一直沿用這種模式。憑借多年的現(xiàn)場經(jīng)驗，vali - tex力求滿足主要閥門商對合作伙伴的
更新時間:2025-12-17
清洗劑VF-CTN美國沃泰斯VAL-TEX閥門清洗液VF-10
對于中等或低油含量的藻株（c1或c3），缺氮條件下的氮回收主要來源于核苷酸的降解，過剩的碳被重新分配至糖類分子作為主要的儲能物質(zhì)。研究表明，氮和碳同化及再分配途徑調(diào)控了能源微藻的脂質(zhì)代謝，促進了油脂的生物合成。在上述研究的基礎(chǔ)上，
更新時間:2025-12-17
清洗液VF-10美國沃泰斯VAL-TEX閥門清洗液VF-CTN
我們可以為顧客擔保雙收益。在合作制農(nóng)場領(lǐng)域，與貧困村成立合作社農(nóng)場，幫助農(nóng)民成為產(chǎn)業(yè)工人，為農(nóng)民提供了非常穩(wěn)定的收益。產(chǎn)業(yè)工人有光伏加農(nóng)業(yè)穩(wěn)定的雙收益，美國沃泰斯val-tex閥門清洗液vf-ctn實現(xiàn)共同的發(fā)展致富。
更新時間:2025-12-17
Val-Tex美國沃泰斯VF-40清洗液
此次與中科智城合作，則將推動雷士在智慧商業(yè)照明及智慧城市照明領(lǐng)域的發(fā)展。led路燈不僅用于道路照明，還可成為智慧城市的一部分。中科智城的有關(guān)人士認為，智能路燈未來聯(lián)成平臺，將有很多應(yīng)用。智慧城市通過平臺進行數(shù)據(jù)整合和管理。
更新時間:2025-12-17
VF-CTN清洗液Val-Tex美國沃泰斯VF-440清洗液
對此，鋼鐵工業(yè)協(xié)會副會長李新創(chuàng)表示，力拓的加價計劃不是個好主意。由于鐵礦石市場供應(yīng)過剩格局沒有改變，產(chǎn)量勢必將繼續(xù)上升。因此，鐵礦石價格不能說漲就漲?！坝捎谖覈鴮?5%品位的鐵礦石有需要進口，當美元相對于人民幣開始持續(xù)走高時，
更新時間:2025-12-17
Val-Tex美國沃泰斯VF-GAL清洗液
在李孟軍的技術(shù)驅(qū)動下，拓普斯諾大力開拓海內(nèi)外市場，銷售網(wǎng)絡(luò)拓展到美國、阿聯(lián)酋、泰國、荷蘭、英國等多個。val-tex 美國沃泰斯vf-gal清洗液出口的產(chǎn)品可持久為客戶提供完善的照明領(lǐng)域的技術(shù)咨詢、產(chǎn)品開發(fā)、檢測檢驗及售后服務(wù)，
更新時間:2025-12-17
沃泰斯VAL-TEX清洗液VF-1010磅
在太陽能、風能和其他清潔能源技術(shù)領(lǐng)域投入的資金從2005年的80億美元激增至2015年的1030億美元。目前為開發(fā)可再生能源投入的資金比美國和歐洲加起來都要多。
更新時間:2025-12-17
Val-Tex美國沃泰斯VF-GAL清洗劑
如今lgd決定以調(diào)整染料比例的方式提高色域，準備挑戰(zhàn)學理上與技術(shù)上的限制，在原料品質(zhì)或制程中追求更高技術(shù)水準。據(jù)了解，lgd即將采用的新原料將由韓國業(yè)者負責供應(yīng)。業(yè)界表示，lgd打算透過新的彩色濾光片染料，強化電視產(chǎn)品的市場競爭力。
更新時間:2025-12-17
沃泰斯VAL-TEX清洗劑VF-1010磅
學會應(yīng)圍繞發(fā)揮自身學科、人才和專業(yè)優(yōu)勢，科學預(yù)判科技發(fā)展趨勢，提出科技前沿取得突破的可能領(lǐng)域及方向，為培育未來核心競爭力提供基礎(chǔ)性科技知識儲備方向性建議。瞄準新一輪科技和產(chǎn)業(yè)變革的前沿熱點，圍繞關(guān)鍵核心技術(shù)，提出技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)發(fā)展路線圖，
更新時間:2025-12-17
清洗劑VAL-TEX閥門清洗液VF-GAL1加侖
國內(nèi)也出現(xiàn)了錢景、拿鐵財經(jīng)、理財魔方等模仿者，就連記賬軟件網(wǎng)易有錢也開始向智能投顧轉(zhuǎn)型。不過在政策和牌照的壓力下，智能投顧能走多遠仍不得而知。
更新時間:2025-12-17
Val-Tex美國沃泰斯VF-440清洗劑
審慎研究目標消費者的需求并研發(fā)相應(yīng)產(chǎn)品。阿思特智能機器人之所以具有較高的市場接受度，主要是阿思特具有的互動學習、智能娛樂、語音對話等功能，是從消費者的實際需求出發(fā)而針對性設(shè)計的。正與其他很多行業(yè)一樣，
更新時間:2025-12-17
VAL-TEXVF-10約4.53KG/桶清洗液大量現(xiàn)貨
val-texvf-10約4.53kg/桶清洗液大量現(xiàn)貨我們認為此次與中廣核的合作，有望加速公司光伏電站建設(shè)進度。與engie簽訂合作開發(fā)500mw光伏電站。engie（前蘇伊士環(huán)能）是一家涉足能源領(lǐng)域的跨國集團。
更新時間:2025-12-17
LSC-4000 (D) 兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-12-17
SWC-5000 (AD) 全自動兆聲濕法去膠系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
SWC-3000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
SWC-4000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
LSC-5000 (AC) 全自動兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-12-17
Harrick基本型等離子清洗機PDC-32G-2
hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當之無愧的領(lǐng)先者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。
更新時間:2025-12-16
Harrick擴展型等離子清洗機PDC-002
hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當之無愧的領(lǐng)先者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。
更新時間:2025-12-16
Harrick擴展型等離子清洗機PDC-002HP
hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當之無愧的領(lǐng)先者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。
更新時間:2025-12-16
紫外臭氧清洗機
我們所提供的紫外臭氧清洗系統(tǒng)是一種簡單，經(jīng)濟，高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時間，按下運行按鈕，就可以在幾分鐘內(nèi)，快速去除大多數(shù)無機基材上的有機污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧，將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而不留痕跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
更新時間:2025-12-16
Tergeo等離子清洗機
適用于等離子體清洗，蝕刻，表面處理
更新時間:2025-12-16
Tergeo-Plus 等離子清洗機
等離子清洗機清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產(chǎn)生表面活性功能組；清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，pdms；表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預(yù)處理表面聚合：沉積帶官能分子團的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；表面改性：在材料表面產(chǎn)生官能分子團，高分子材料表面修飾；去除表面殘留微生物，醫(yī)療器械的消毒和殺菌；
更新時間:2025-12-16
樣品桿清潔等離子清洗機
ergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發(fā)先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導體和核工程研究中開發(fā)的最新等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳氫污染而設(shè)計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網(wǎng)上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準sem樣品托。特別設(shè)計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿。
更新時間:2025-12-16
電鏡腔等離子清潔儀
美國pie出品的em-kleen型遠程等離子清潔儀，廣泛用于sem掃描電鏡,fib聚焦離子束雙束電鏡,tem透射電鏡,xps_x射線光電子能譜分析儀,ald原子層沉積系統(tǒng),cd-sem, ebr, ebi, euvl和其它高真空系統(tǒng)，可同時清潔真空腔室和樣品！污染物對電子顯微鏡sem/tem和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響
更新時間:2025-12-16
紫外臭氧清洗機PSD系列
psd系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺式清洗設(shè)備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個帶反射罩的高強度uv格柵燈盤, 和可調(diào)節(jié)高度的樣品臺，用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進出氣接口。該系統(tǒng)由一個方便的預(yù)設(shè)置控制器控制，非常容易操作。
更新時間:2025-12-16
紫外臭氧清洗機UVO系列
清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如co2,h2o等。整個過程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。
更新時間:2025-12-16

最新產(chǎn)品
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