q150r es plus離子濺射/碳蒸發(fā)一體化鍍膜儀適用于給樣品鍍制不氧化金屬膜(即貴金屬膜),標(biāo)配一塊金靶,也可選配金、銀、鉑、鈀、金/鈀合金及鉑/鈀合金等金屬靶;以及為eds樣品鍍制碳膜。(對(duì)于易氧化金屬的濺射鍍膜或需鍍制tem碳支持膜,請(qǐng)選購(gòu)q150t plus系列高真空鍍膜儀)
日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極,能夠最大限度地減輕對(duì)樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑:60 mm日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度:20 mm