離子濺射儀產(chǎn)品及廠家
• 裝載互鎖式（load lock）多腔體等離子系統(tǒng)• 晶圓料盒至晶圓料盒式(cassette-cassette processing)等離子處理• 破壞真空的情況下最多可沉積四種薄膜• 基片尺寸：125 x 125mm,156 x 156mm 及200mm直徑基片（可采用裝載器處理小尺寸基片）.• 常規(guī)薄膜：siox & sinx - a- si• 研發(fā)、試制生產(chǎn)及生
更新時(shí)間:2025-12-02
深反應(yīng)離子刻蝕（drie）及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（pevcd）等離子處理系統(tǒng)主要性能簡介. 等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的設(shè)備。為了滿足等離子研究日新月異的要求，用戶選購的系統(tǒng)設(shè)備滿足最大范圍的等離子工藝參數(shù)需要，工藝驗(yàn)證需要極其高的可重復(fù)性，必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信il裝載互鎖式（load lock）感應(yīng)耦合等離子（icp）蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)滿足這些非常
更新時(shí)間:2025-12-02
ps系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)重新定義了圓筒式等離子處理工藝。該等離子處理系統(tǒng)基于模塊化設(shè)計(jì)制造，采用一款通用的真空處理艙及機(jī)箱，多款電極模塊方便整體系統(tǒng)的組裝及配置。ps系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)帶給用戶方便操作，提供多種等離子處理工藝、方便維護(hù)及性價(jià)比高的系統(tǒng)比業(yè)內(nèi)氣體等離子處理系統(tǒng)更具競爭力。
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