鍍膜機(jī)產(chǎn)品及廠家
英國(guó)oxford vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)vapour station 4,是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機(jī)無(wú)機(jī)多源有氣相分子沉積系統(tǒng)，高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機(jī)、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護(hù)條件下器件后期制作，主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能，研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)也可用于普通金屬電蒸發(fā)鍍膜究。
更新時(shí)間:2025-08-01
法國(guó)plassys微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) ssdr 150 ，門用于合成 cvd 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學(xué)窗口。ssdr150 不斷優(yōu)化的微波及等離子體設(shè)計(jì)，是一款可靠的、穩(wěn)定的、長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行的金剛石薄膜生長(zhǎng)系統(tǒng)，能夠完美地適用于高校科研和企業(yè)生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-01
英國(guó)hhv桌上型濺射鍍膜儀bt150和bt300,新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于sem及tem電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-08-01
日立hitachi 離子濺射儀 mc1000,采用lcd觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件),記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件.
更新時(shí)間:2025-08-01
美國(guó)neocera pld 脈沖激光沉積系統(tǒng) p180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法. ped 脈沖電子束沉積系統(tǒng) ped-180,是高能脈沖 (100ns) 電子束 ( 約 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透將近 1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對(duì)靶材的非平衡提。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學(xué)計(jì)量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學(xué)計(jì)量與沉積
更新時(shí)間:2025-08-01
小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開(kāi)發(fā)。
更新時(shí)間:2025-08-01
小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開(kāi)發(fā)。
更新時(shí)間:2025-08-01
浸漬提拉鍍膜機(jī)功能特征高精度電機(jī)---英國(guó)ossila浸漬提拉鍍膜機(jī)采用高精度電機(jī)，樣品浸漬重復(fù)性好。平滑運(yùn)動(dòng)---英國(guó)ossila浸漬提拉鍍膜機(jī)采用微頻步進(jìn)電機(jī)，基片浸入、提出過(guò)程平滑精準(zhǔn)，保證浸漬
更新時(shí)間:2025-07-31
cif烤膠機(jī)采用智能程序化控溫技術(shù)，控溫精準(zhǔn)均勻，加熱快速高效，維修簡(jiǎn)單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達(dá)到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻性要求高的實(shí)驗(yàn)室。
更新時(shí)間:2025-07-31
cif勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ito 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。
更新時(shí)間:2025-07-31
英國(guó)ossila公司浸漬提拉鍍膜機(jī)性能卓越，內(nèi)置軟件，操作簡(jiǎn)單，價(jià)格經(jīng)濟(jì)，為科研領(lǐng)域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設(shè)計(jì)的精密儀器。目前在化學(xué)、材料科學(xué)的研究中，被廣泛應(yīng)用于溶膠-凝膠（sol-gel）法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝，可以精準(zhǔn)控制膜片提出速度，進(jìn)而控制涂層厚度，保證良好重復(fù)性。提供2年的質(zhì)保，為使用者提供更高的保障。
更新時(shí)間:2025-07-31
ossila旋涂機(jī)產(chǎn)品介紹許多年來(lái),英國(guó)ossila公司旋涂機(jī)一直以高質(zhì)量的涂布效果而著稱。ossila公司根據(jù)眾多客戶反饋，結(jié)合公司內(nèi)部強(qiáng)大的研發(fā)力量推出一種全新的旋涂機(jī)，大大提高了產(chǎn)品的可用性和效
更新時(shí)間:2025-07-31
大風(fēng)量風(fēng)機(jī) 2xb730-h37風(fēng)帕克風(fēng)機(jī) 4kw 380v 風(fēng)量每小時(shí)420立方 -260/310mpar高壓、大風(fēng)量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質(zhì)，大幅降低重量，達(dá)到輕量化的目的。 馬達(dá)為i.e.c設(shè)計(jì)（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達(dá)，特殊軸設(shè)計(jì)，可適合長(zhǎng)時(shí)間使用。 特殊葉片設(shè)計(jì)，壓力大、風(fēng)量大、低噪音、壽命長(zhǎng)
更新時(shí)間:2025-07-26
貝富克風(fēng)機(jī)2hb730-ah26 貝富克高壓風(fēng)機(jī)，大風(fēng)量 高壓力。風(fēng)量420立方壓力-260/310mpar高壓、大風(fēng)量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質(zhì)，大幅降低重量，達(dá)到輕量化的目的。 馬達(dá)為i.e.c設(shè)計(jì)（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達(dá)，特殊軸設(shè)計(jì)，可適合長(zhǎng)時(shí)間使用。 特殊葉片設(shè)計(jì)，壓力大、風(fēng)量大、低噪音、壽命長(zhǎng)
更新時(shí)間:2025-07-26
除濕設(shè)備風(fēng)機(jī) 2xb910-h07貝富克風(fēng)機(jī) 高壓力大風(fēng)量 適用于切紙機(jī)、卷煙濾嘴成型機(jī)、電鍍槽液攪拌、霧化干燥機(jī)、水處理曝氣、絲網(wǎng)印刷機(jī)、照相制版機(jī)、注塑機(jī)自動(dòng)上料烘干機(jī)、液體灌裝機(jī)、電焊設(shè)備、電影機(jī)械、紙張運(yùn)送、干洗衣服、清洗、空氣除塵、干瓶、氣體傳送、送料、收集等方面。
更新時(shí)間:2025-07-26
實(shí)驗(yàn)室流延薄膜機(jī) 單螺桿擠出機(jī) 小型流延薄膜機(jī)型號(hào)：aod-xh-432 設(shè)備規(guī)數(shù) 型號(hào)aod-xh-25 單螺桿擠出機(jī) 機(jī)架采用型鋼焊接而成,并經(jīng)回應(yīng)力處理,有較高的鋼性,變形小。料筒及螺桿 標(biāo)配：3d混煉頭帶分散性單螺桿料筒及螺桿
更新時(shí)間:2025-07-24
極域真空鍍膜系統(tǒng)以“真空性能”與“全域工藝覆蓋”為內(nèi)核，成為半導(dǎo)體、光學(xué)、新能源等制造領(lǐng)域的標(biāo)桿設(shè)備，助力客戶突破鍍膜技術(shù)瓶頸，實(shí)現(xiàn)“高精度、高效率、高回報(bào)”的智造升級(jí)。
更新時(shí)間:2025-07-21
sc-dp-i型桌面型提拉鍍膜機(jī) 性能特點(diǎn)：· 采用 4.3 寸彩色觸摸屏、bamboo 觸控筆，圖形化界面操作方便·&n
更新時(shí)間:2025-07-17
浸涂機(jī)nadetech nd-dc是一種完全自動(dòng)化的單元，用于通過(guò)浸涂法制造薄膜。其設(shè)計(jì)和可編程軟件允許以高精度和可重復(fù)性控制和自動(dòng)化每個(gè)沉積參數(shù)。nd-dc用于通過(guò)浸涂技術(shù)獲得具有一層或多層的納米涂層，例如溶膠-凝膠，聚合物層，自組裝單層膜和各種生物膜。
更新時(shí)間:2025-07-17
用于測(cè)定棉、毛、絲、麻、化纖等紗線的捻度。性能符合gb/2543.1和gb/t2543.2的規(guī)定。
更新時(shí)間:2025-07-16
xf801-150mm 六工位旋轉(zhuǎn)提拉鍍膜機(jī)浸漬提拉過(guò)程中按配方任意間隔旋轉(zhuǎn)
更新時(shí)間:2025-07-16
運(yùn)行平穩(wěn)無(wú)抖動(dòng)，液面無(wú)振動(dòng)，可保證設(shè)備的穩(wěn)定性以及成膜的均勻性。 · 自主研發(fā)的程序控制系統(tǒng)，簡(jiǎn)潔明了、操作方便。
更新時(shí)間:2025-07-16
jc503-eb100提拉鍍膜機(jī)是一款基本型提拉鍍膜機(jī)，可自動(dòng)完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求，重復(fù)鍍膜次數(shù)可達(dá)999次。所有運(yùn)行參數(shù)如運(yùn)行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時(shí)間，間隔時(shí)間，重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏上方便設(shè)置。
更新時(shí)間:2025-07-16
本產(chǎn)品是根據(jù)國(guó)標(biāo)gb/t21719-2008《稻整精米率檢驗(yàn)法》*新研制，是制定國(guó)家稻谷標(biāo)準(zhǔn)中整精米率數(shù)據(jù)的*指定儀器。
更新時(shí)間:2025-07-16
xf803-931浸漬提拉鍍膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（sol--gel法，簡(jiǎn)稱sg法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進(jìn)口配件，精準(zhǔn)控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無(wú)位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時(shí)間均可以通過(guò)程序精確控制。適用于玻璃、si（100）、si（111）、藍(lán)寶石（al2o3）、瓷片以及樹脂基板等常用基板。
更新時(shí)間:2025-07-16
六源有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。opv系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實(shí)驗(yàn)室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于glove box無(wú)水、無(wú)氧、無(wú)塵的超純環(huán)境中，pvd與glove box硬件無(wú)縫對(duì)接，操控融合一體，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、oled等研究領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-07-13
歐尼卡onick am-38帶彩信版野生動(dòng)物紅外監(jiān)測(cè)相機(jī)支持3000萬(wàn)像素高清拍照，4k高清視頻拍攝。儀器啟動(dòng)反應(yīng)快，成像清晰，色彩真實(shí)。大可支持256gb sd存儲(chǔ)卡，兼容各種品牌。可搭載我司自主研發(fā)的云平臺(tái)圖像處理系統(tǒng)（軟著登記號(hào)：2022sr0370995），對(duì)抓拍到的圖片及視頻進(jìn)行識(shí)別與分析，還可搭配手機(jī)app遠(yuǎn)程控制相機(jī)（軟著登記號(hào)：2022sr0370994），遠(yuǎn)程控制修改參數(shù)，
更新時(shí)間:2025-07-11
leica em ace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計(jì)來(lái)根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時(shí)間:2025-07-09
新一代ems 150r鍍膜儀(真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）采用最新技術(shù)研制而成，彩色觸摸液晶屏，快速的參數(shù)輸入，數(shù)種碳絲匹配，友好的用戶界面，帶給你不一般的操作感受！
更新時(shí)間:2025-06-26
ms150 t離子濺射鍍膜儀的機(jī)殼是整體成型的，結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用，配有氣冷的70l/s的渦輪分子泵，自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了濺射期間最佳的真空水平，真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。ems150t具有“真空閉鎖”功能，可在設(shè)備不工作時(shí)維持腔室的真空度，從而保證高真空的性能。
更新時(shí)間:2025-06-26
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 霍爾離子源 eh 2000 是一款更強(qiáng)大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eh 1000 所有的性能, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 40 : 目 kri 射頻離子源 rficp 系列尺寸小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內(nèi). 離子源 rficp 40 設(shè)計(jì)采用創(chuàng)新的柵技術(shù)用于研發(fā)和開(kāi)發(fā)應(yīng)用. 離子源 rficp 40 無(wú)需電離燈絲設(shè)計(jì), 適用于通氣氣體是活性氣體時(shí)的工業(yè)應(yīng)用. 標(biāo)準(zhǔn)配置下 rficp 40 離子能量范圍 100 至 1200ev,
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 霍爾離子源 eh 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eh 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
更新時(shí)間:2025-06-24
美國(guó) kri 霍爾離子源 eh 系列緊湊設(shè)計(jì), 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eh 可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù).
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 考夫曼型離子源 rficp 100 緊湊設(shè)計(jì), 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計(jì)但是可以輸出 >400 ma 離子流. 考夫曼型離子源 rficp 100 源直徑19cm 安裝在10”cf 法蘭, 在離子濺鍍時(shí), 離子源配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學(xué)配合, 蝕刻更均勻. 標(biāo)準(zhǔn)配
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個(gè)磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國(guó) kri 離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時(shí)間, 進(jìn)而節(jié)省整體實(shí)驗(yàn)時(shí)間. 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理剝離成形電子束設(shè)備可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)速度, 因此薄膜厚度和均勻度皆小于 ±3％, 客制化的基板尺寸, 大直徑可達(dá) 12寸晶圓, 腔體的限真空度約為 10-8 torr.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 140 是一款緊湊的有柵離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 rficp 140 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 就標(biāo)準(zhǔn)的型號(hào)而言, 可以在離子能
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理 syskey 臺(tái)灣矽碁科技超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備腔體限真空度約為 10-10torr, 針對(duì)超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來(lái)保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性, 可以提供高質(zhì)量的薄膜, 薄膜均勻度小于 ±3％.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 220 高能量柵離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 rficp 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 rficp 220 離子能量范圍
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理 syskey 臺(tái)灣矽碁科技電子束蒸鍍?cè)O(shè)備是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 蒸鍍系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來(lái)達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu). 在基板乘載上針對(duì)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì), 單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3％. 腔體的限真空度約為 10-8 torr. 為了獲得盡可能大的制程靈活性, 可以結(jié)合美國(guó) kri 離子源進(jìn)行離子輔助沉積或
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東美國(guó) kri 大口徑射頻離子源 rficp 380, 3層?xùn)旁O(shè)計(jì), 柵口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200ev 寬束離子束, 大離子束流 > 1000ma, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機(jī).
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 uhv sputter 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理原子層沉積設(shè)備可以精準(zhǔn)的控制 ald 的制程, 薄膜的厚度和均勻度皆小于 +/- 1％, 廣泛應(yīng)用于 oled 和硅太陽(yáng)能電池的鈍化層, 微機(jī)電系統(tǒng), 納米電子學(xué), 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜, 光學(xué)薄膜, 薄膜封裝技術(shù)等域.
更新時(shí)間:2025-06-24
英國(guó)hhv公司的hhv auto系列產(chǎn)品是一種多功能鍍膜設(shè)備（熱阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和濺射可選），設(shè)計(jì)用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto系列可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。張先生 139-（#qq.com）聯(lián)系人：張先生 139-115145
更新時(shí)間:2025-06-23
美國(guó)cts公司提供的cts-6u型6kw微波等離子金剛石cvd系統(tǒng)具有高度可重復(fù)的真空完整性設(shè)計(jì)特點(diǎn)，能夠在接近大氣壓范圍內(nèi)運(yùn)行，用于高沉積速率的單晶工藝。它還可以合成高純度的高均勻性和大面積的單晶和多晶。腔室、觀察窗和沉積臺(tái)的設(shè)計(jì)與先進(jìn)的計(jì)算機(jī)過(guò)程控制相結(jié)合，具有無(wú)人值守的安全互鎖功能，可以獲得高可靠性、長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定性。cts-6u是最新一代cvd金剛石反應(yīng)器，專為滿足高產(chǎn)量、高質(zhì)量、高性價(jià)比的生
更新時(shí)間:2025-06-23
svt公司的樣品解理部件可以將15mm（其他尺寸可選）的方形樣品解理成15個(gè)1mm×15mm的bar條。所有解理出的bar條被收集到樣品托，堆疊在一起進(jìn)行下一步批量加工。獨(dú)特設(shè)計(jì)的解理工具避免了器件被破壞以及樣品互相黏在一起的可能性。此解理工具可適用于uhv環(huán)境。解理機(jī)可以增加鈍化層沉積模塊。解理后堆疊在一起的bar條直接進(jìn)入鈍化室，不用暴露大氣。
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