Class1000烤箱，千級無塵烤箱

class1000烤箱，千級無塵烤箱用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求。

更新時間:2025-12-30

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

百級無塵烤箱，100級潔凈烤箱

百級無塵烤箱，100級潔凈烤箱用于ic可靠性試驗，ic封裝，光刻膠固化，電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

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箱式電阻爐，高溫馬弗爐#2023價格已更新

箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實驗室作化學分析、物理測定和一般小型鋼件熱處理時加熱之用。

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無氧化烤箱，氮氣無氧化烤箱

無氧化烤箱，氮氣無氧化烤箱內(nèi)翅片式水冷散熱器，冷卻水通過散熱器快速帶走更多的熱量，使得箱內(nèi)溫度快速下降，縮短降溫時間，提高生產(chǎn)效率。

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精密烘箱，300度精密烘箱

精密烘箱，300度精密烘箱具有安全性好，潔凈度高,節(jié)能效果優(yōu)，保溫性佳，溫度均勻性好。大多應用于烘烤光學光纖,精密電子及醫(yī)藥器材等欲烘烤物品的烘干或溫升處理等。廣泛使用于pcb、電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、印刷、噴涂、玻璃、陶瓷等的精密烘烤、高溫去應力、老化、烘干、定型、加工等.

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充氮烤箱，銀膠固化氮氣烘箱

充氮烤箱，銀膠固化氮氣烘箱用于ic芯片制造封裝過程的fol– epoxy cure 銀膠固化。

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HMDS烘箱圖像反轉系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機

hmds烘箱圖像反轉系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機使用hmds（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經(jīng)濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

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電熱鼓風干燥箱，高溫干燥箱

電熱鼓風干燥箱采用鏡面不銹鋼內(nèi)膽，最新p.i.d模糊邏輯處理控制器，獨立限溫報警系統(tǒng)，箱體左側有一直徑50mm測試孔，便于實驗操作與測量溫度

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雙腔無氧烤箱，兩箱無氧烘箱@2023已更新推薦

該工業(yè)烘烤箱是一種新型可營造無氧潔凈恒溫環(huán)境的電熱鼓風烘箱箱,在加溫工作的同時充入氮氣,適用高溫易氧化產(chǎn)品的烘烤加熱。

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抽屜烘箱，抽拉層式烘箱2023動態(tài)已更新《新品/推薦》

抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導體、電子行業(yè)、軌道交通、汽車零部件、航空航天，工礦企業(yè)、大院校、生物制藥、科研、醫(yī)療單位及各類實驗室等作非易燃易爆物品及非揮發(fā)性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。

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HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱

hmds真空烘箱，hmds鍍膜烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

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電子無塵烤箱，電子潔凈烘箱

電子無塵烤箱，電子潔凈烘箱應用于晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅芯片。在硅芯片上可加工制作成各種電路組件結構，而成為有特定電性功能之ic產(chǎn)品。一般是芯片電路設計-晶圓的制造-晶圓的測試-晶圓的切割研磨-芯片的封裝-成品芯片的測試。在整個工藝中晶圓烘烤工藝也很重要，且需要多次烘烤。

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碳化硅HMDS烘箱，SiC襯底HMDS烤箱

碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。

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鈮酸鋰無氧化烘箱

鈮酸鋰無氧烘箱用于半導體晶片、半導體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。

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芯片高溫燒結箱，500℃高溫烤箱@實驗室動態(tài)

芯片高溫燒結箱，500℃高溫烤箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結

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熱風真空烘箱，真空+鼓風一體烘箱操作方法#技術新聞

熱風真空烘箱，真空+鼓風一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝

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二極管潔凈烘箱，LED氮氣烘箱

二極管潔凈烘箱，led氮氣烘箱在工作時，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……

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電線電纜真空干燥箱，電線電纜絕緣吸水真空試驗烘箱

電線電纜真空干燥箱用于電線電纜絕緣吸水試驗，符合gb/t2951.13-2008等標準的要求

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非標無塵無氧烘箱，無氧干燥箱

非標無塵無氧烘箱，無氧干燥箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).

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桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱#推薦@2023系統(tǒng)配置

js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達到常壓后方可開門。

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自然通風老化箱，自然換氣式老化試驗機

自然通風老化箱，自然換氣式老化試驗機用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作熱老化試驗、熱延伸試驗、球壓試驗等，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實驗室作烘焙、高溫試驗,符合gb/t 2951電纜和光纜絕緣和護套材料通用試驗方法。

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潔凈烘箱，氮氣潔凈烘箱，充氮烘箱

潔凈烘箱，氮氣潔凈烘箱，充氮烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)。

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PI無氧烘箱工藝流程

pi無氧烘箱工藝流程用于半導體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。

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HMDS蒸鍍真空烤箱，芯片HMDS蒸鍍烤箱

hmds蒸鍍真空烤箱，芯片hmds蒸鍍烤箱消除芯片表面的微量水份，防止空氣中的水汽再次吸附于晶面，增加光阻劑(尤其是正光阻)對于晶面的附著能力,進而減少在而后之顯影過程中產(chǎn)生光阻掀起,或是在蝕刻時產(chǎn)了”undercutting”的現(xiàn)象。

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全不銹鋼潔凈烘箱，高溫潔凈烘箱定做

全不銹鋼潔凈烘箱，高溫潔凈烘箱定做潔凈度class 100，設備采用無塵材料，適用100光刻間凈化環(huán)境

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芯片電熱鼓風烤箱，可編程鼓風烘箱

芯片電熱鼓風烤箱，可編程鼓風烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱#2023動態(tài)已更新

hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。

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潔凈烘箱

潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。

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SECS/GEM通訊HMDS鍍膜機

secs/gem通訊hmds鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業(yè)。

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無塵class100烘箱，MES接口無塵烘箱

無塵class100烘箱，mes接口無塵烘箱用于ic生產(chǎn)過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、柔性面板、lcd、cmos、oled、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。

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真空無氧化烤箱（BCB厭氧固化烤烘箱）

真空無氧化烤箱（bcb厭氧固化烤烘箱）是將涂敷bcb或pi的襯底放入真空無氧烘箱中，通入n2→真空置換后，采用多升溫保溫的方式，在規(guī)定的時間從室溫升至一溫度階段，并在該溫度段保溫1-2h，再在規(guī)定的時間從一溫度升至第二溫度階段，并在該溫度段保溫一定的時間；隨后增通過輔助的降溫系統(tǒng)（水冷和風冷），將退火爐的溫度降至80度左右，完成固化。

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偶聯(lián)劑蒸鍍機抗黏劑蒸鍍機

偶聯(lián)劑蒸鍍機抗黏劑蒸鍍機應用工藝和鍍膜化學品區(qū)別不同，應用于半導體，集成電路，mems工藝，建筑材料，航天新材料

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無塵烘箱，100級潔凈烘箱

無塵烘箱，100級潔凈烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

更新時間:2025-12-30

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無塵烘箱，MES百級烘箱

無塵烘箱，mes百級烘箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中的堅膜工藝、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、橡膠、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。

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高溫充氮潔凈烘箱，無塵充氮烤箱

高溫充氮潔凈烘箱，無塵充氮烤箱是一種耐高溫，可以達到和工作場所同樣的潔凈等級的烘箱。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。

更新時間:2025-12-30

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箱式電阻爐，高溫馬弗爐

箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實驗室作化學分析、物理測定和一般小型鋼件熱處理時加熱之用。

更新時間:2025-12-30

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半導體烘箱，N2半導體烤箱

半導體烘箱，n2半導體烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、ic封裝、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗

更新時間:2025-12-30

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烘箱，精密烘箱

烘箱，精密烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

更新時間:2025-12-30

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工業(yè)烤箱，半導體干燥烘箱

工業(yè)烤箱，半導體干燥烘箱作室內(nèi)溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及蜂鳴電路，控制可靠，使用安全。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。

更新時間:2025-12-30

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PI真空固化烤箱，水冷卻PI固化爐

pi真空固化烤箱，水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi固化，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業(yè)。

更新時間:2025-12-30

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芯片高溫燒結箱，500℃高溫烤箱2023已更新(每日/實時)

芯片高溫燒結箱，500℃高溫烤箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結

更新時間:2025-12-30

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熱風循環(huán)烘箱，精密烤箱

熱風循環(huán)烘箱，精密烤箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結構、材質(zhì)強度、保溫、循環(huán)風道等均設計精良，且外形美觀、操作方便?？諝庋h(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風，風源由循環(huán)馬達運轉帶動風輪經(jīng)電熱器，將熱風由風道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性

更新時間:2025-12-30

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無氧高溫烘箱，百級無氧烘箱

無氧高溫烘箱，百級無氧烘箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).

更新時間:2025-12-30

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無塵烘箱，不銹鋼無塵烤箱

無塵烘箱，不銹鋼無塵烤箱用于ic生產(chǎn)中烘、后烘烤、堅膜、裝片機后端烘烤、塑封封裝烘烤、光刻膠固化、治具干燥、薄膜烘烤、硅片干燥等工藝。

更新時間:2025-12-30

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流水線式干燥烘箱，非標隧道烘箱定做

流水線式干燥烘箱，非標隧道烘箱定做是連續(xù)式烘干設備，可持續(xù)不間斷地烘烤，提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率，應用于輕工，電子，食品，化工，木業(yè)，機械等行業(yè)。

更新時間:2025-12-30

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HMDS蒸鍍烤箱，可程式HMDS機臺

hmds蒸鍍烤箱，可程式hmds機臺通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業(yè)。

更新時間:2025-12-30

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