三箱式百無(wú)塵烤箱，電子百潔凈烘箱

三箱式百無(wú)塵烤箱，電子百潔凈烘箱采用彩色觸摸屏溫度控制器，內(nèi)置曲線(xiàn)記錄、查詢(xún) pid自整定、高溫上限報(bào)警、運(yùn)行方式：定值、程式語(yǔ)言：中、英文

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全不銹鋼潔凈烘箱，高溫潔凈烘箱定做

全不銹鋼潔凈烘箱，高溫潔凈烘箱定做潔凈度class 100，設(shè)備采用無(wú)塵材料，適用100光刻間凈化環(huán)境

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智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱(PI固化厭氧烤箱)

智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱(pi固化厭氧烤箱)采用人機(jī)界面+plc，智能控制模式，可一鍵完成作業(yè)。人機(jī)界面采用觸摸屏來(lái)實(shí)現(xiàn)參數(shù)、狀態(tài)等界面的顯示和參數(shù)的設(shè)定輸入。

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真空無(wú)氧化烤箱（bcb厭氧固化烤烘箱）是將涂敷bcb或pi的襯底放入真空無(wú)氧烘箱中，通入n2→真空置換后，采用多升溫保溫的方式，在規(guī)定的時(shí)間從室溫升至一溫度階段，并在該溫度段保溫1-2h，再在規(guī)定的時(shí)間從一溫度升至第二溫度階段，并在該溫度段保溫一定的時(shí)間；隨后增通過(guò)輔助的降溫系統(tǒng)（水冷和風(fēng)冷），將退火爐的溫度降至80度左右，完成固化。

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高溫真空無(wú)氧烤箱，真空無(wú)氧化固化爐

高溫真空無(wú)氧烤箱，真空無(wú)氧化固化爐操作界面：人機(jī)界面+plc，可一鍵運(yùn)行，多個(gè)工藝編輯；溫度測(cè)量：k型熱偶；控制儀表：高精度溫度控制器，pid調(diào)節(jié)，控制精度0.1℃，可程式觸摸屏控制器可選擇

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雙門(mén)氮?dú)夂嫦涠ㄖ疲沙涞獰犸L(fēng)循環(huán)烘箱

雙門(mén)氮?dú)夂嫦涠ㄖ?，可充氮熱風(fēng)循環(huán)烘箱箱體材料：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板烤漆；內(nèi)室材料：采用sus304＃無(wú)磁性鏡面不銹鋼；

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可程式真空干燥箱，快速降溫真空烘箱

可程式真空干燥箱，快速降溫真空烘箱用于鍵合鍵合材料的真空固化、ito膜退火，bcb/pi膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。

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聚酰亞胺PI無(wú)氧烘箱，氮?dú)鈦啺坊嫦?/a>

聚酰亞胺pi無(wú)氧烘箱，氮?dú)鈦啺坊嫦鋺?yīng)用于精密電子元件、pi、cpi/pbo/lcp/bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求

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后曝光氮?dú)夂嫦?，PEB無(wú)塵烘箱

后曝光氮?dú)夂嫦?，peb無(wú)塵烘箱所使用的高溫（100-130°c）會(huì)使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋.百潔凈度無(wú)塵化，用于半導(dǎo)體，集成電路

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潔凈無(wú)氧烘箱，氮?dú)鉄o(wú)氧烘箱

潔凈無(wú)氧烘箱，氮?dú)鉄o(wú)氧烘箱聚酰亞胺作為鈍化層和緩沖保護(hù)層在微電子工業(yè)上應(yīng)用非常廣泛。pi 涂層可有效地阻滯電子遷移、防止腐蝕。pi 層保護(hù)的元器件具有很低的漏電流，可增加器件的機(jī)械性能，防止化學(xué)腐蝕，也可有效地增加元器件的抗潮濕能力。pi 薄膜具有緩沖功能，可有效地降低由于熱應(yīng)力引起的電路崩裂斷路，減少元器件在后續(xù)的加工、封裝和后處理過(guò)程中的損傷；

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HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱

hmds疏水烘箱，hmd真空烘箱是涂膠對(duì)硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使襯底表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性

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六箱體氮?dú)夂嫦洌鄠}(cāng)式潔凈烘箱

六箱體氮?dú)夂嫦?，多倉(cāng)式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅(jiān)膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產(chǎn)、外延片烘烤、墨點(diǎn)烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能

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HMDS黏附機(jī) 光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱

hmds黏附機(jī) 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應(yīng)用多晶硅，石英，太陽(yáng)能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno（氧化鋅）、gao（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。

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HMDS烘箱圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)

hmds烘箱圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)使用hmds（六甲基二硅氮烷）對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

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HDMS烘箱 HDMS真空烘箱智能型HDMS預(yù)處理烘箱

hdms烘箱 hdms真空烘箱智能型hdms預(yù)處理烘箱保護(hù)裝置：緊急停止，hmds藥液泄漏報(bào)&警提示，hmds低液位報(bào)&警，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過(guò)熱保護(hù)等

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程控真空干燥箱可程式真空烘箱真空烤箱

程控真空干燥箱可程式真空烘箱真空烤箱在實(shí)驗(yàn)室、制藥、電子等行業(yè)，干燥工藝的效率與精度直接影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果與產(chǎn)品質(zhì)量。

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紫外固化烘箱真空紫外烘箱 UV固化真空烤箱

紫外固化烘箱真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應(yīng)用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化，3d打印固化，新型材料改性、高分子化學(xué)、半導(dǎo)體材料光固化，以及高等院校和科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室研究。

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潔凈無(wú)氧烤箱充氮潔凈烤箱高溫固化烤箱

潔凈無(wú)氧烤箱充氮潔凈烤箱高溫固化烤箱支持mes等自動(dòng)化通信端口，內(nèi)置計(jì)時(shí)報(bào)警功能，氧含量實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)（氧化鋯分析儀

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高溫低濕烘箱超低濕高溫烤箱

高溫低濕烘箱超低濕高溫烤箱應(yīng)用場(chǎng)景?：led燈珠、ic芯片等濕敏元器件需在40~90℃、濕度≤5％rh的烘箱中預(yù)烘烤，避免回流焊時(shí)出現(xiàn)“爆米花”效應(yīng)?

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NH3氨氣烘箱氨氣真空烘烤系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐

nh3氨氣烘箱氨氣真空烘烤系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐使得光刻膠在半導(dǎo)體、光學(xué)器件及生物芯片等制造領(lǐng)域能夠更地適應(yīng)圖形轉(zhuǎn)移的需求，提升產(chǎn)品的制造質(zhì)量和精度。

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PETG/IPN/TPU膜材料烘箱牙膠片防氧化烘箱隱形正畸膜熱處理烤箱

petg/ipn/tpu膜材料烘箱牙膠片防氧化烘箱隱形正畸膜熱處理烤箱牙科膜片是一種常用的牙種材料，月于修復(fù)牙或進(jìn)行美容矯正。無(wú)氧烘箱也適用于lcp膜固化處理、pi固化、bcb等材料固化生產(chǎn)。

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乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) VTMS蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)

乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) vtms蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)在材料進(jìn)行表面改性，形成防水保護(hù)層，主要用于半導(dǎo)體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機(jī)械乳化劑、橡膠粘結(jié)劑，化工油墨分散劑等用途。

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氮?dú)庹婵諆?chǔ)存箱真空防潮柜定制全自動(dòng)真空氮?dú)夤?/a>

氮?dú)庹婵諆?chǔ)存箱真空防潮柜定制全自動(dòng)真空氮?dú)夤裼糜诎雽?dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等，及機(jī)金屬加工件與各類(lèi)不便于冷藏的食品，還有書(shū)籍、衣物等厭氧物品的真空存貯，以防潮、防氧化變色。適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所

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實(shí)驗(yàn)室HMDS專(zhuān)用烘箱小型HMDS處理烤箱

實(shí)驗(yàn)室hmds專(zhuān)用烘箱小型hmds處理烤箱解決光刻膠附著力不足問(wèn)題,同時(shí)增強(qiáng)光刻圖形的完整性.

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烤膠機(jī) 智能型烘膠臺(tái) 高精度熱板

烤膠機(jī) 智能型烘膠臺(tái) 高精度熱板適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導(dǎo)電玻璃等工藝，光刻膠快速固化,制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復(fù)性好。

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表面改性疏水處理設(shè)備

表面改性疏水處理設(shè)備將疏水材料硅烷偶聯(lián)劑，通過(guò)霧化設(shè)備噴涂到陶瓷纖維表面，經(jīng)高溫烘烤數(shù)小時(shí)增強(qiáng)附著力。

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憎水處理系統(tǒng) 保溫棉憎水性處理機(jī)

憎水處理系統(tǒng) 保溫棉憎水性處理機(jī)用于米壓印工藝/半導(dǎo)體制造/光電面板處理/陶瓷新材料/納米多孔陶瓷材料/碳纖維材料/保溫棉/碳化硅材料等新型復(fù)合材料。

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JS玻璃棉卷氈憎水處理系統(tǒng) 憎水劑噴涂機(jī)

玻璃棉卷氈憎水處理系統(tǒng) 憎水劑噴涂機(jī)是將憎水劑滲透進(jìn)入纖維間的微孔隙，固化后在孔隙表面形成納米級(jí)疏水膜，減少水汽通過(guò)毛細(xì)作用滲透的通道，同時(shí)保持纖維間孔隙的保溫性能（憎水率≥98％）

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偶聯(lián)劑蒸鍍機(jī) 抗黏劑蒸鍍機(jī)

偶聯(lián)劑蒸鍍機(jī) 抗黏劑蒸鍍機(jī)應(yīng)用工藝和鍍膜化學(xué)品區(qū)別不同，應(yīng)用于半導(dǎo)體，集成電路，mems工藝，建筑材料，航天新材料

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JS-HMDS四腔HMDS真空烘箱電腦式多工位HMDS烘箱

四腔hmds真空烘箱電腦式多工位hmds烘箱將六甲基二硅烷（hmds）快速、均勻且經(jīng)濟(jì)高效的對(duì)襯底預(yù)處理，從而提高襯底與光刻膠的附著力

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class100高溫潔凈烘箱，程控式無(wú)塵烤箱

class100高溫潔凈烘箱，程控式無(wú)塵烤箱采用液晶觸摸屏溫度控制器，內(nèi)置曲線(xiàn)查詢(xún)、pid自整定、高溫上限報(bào) 警運(yùn)行方式：定值、程式，中、英文操作。

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高溫?zé)o氧烘箱，充氮高溫?zé)o氧烤箱

高溫?zé)o氧烘箱，充氮高溫?zé)o氧烤箱應(yīng)用于mems智能傳感器芯片生產(chǎn)、lcd工段生產(chǎn)、玻璃基板等工藝中的pi（聚酰亞胺）固化，bcb聚合物、pbo高溫固化，銀膠固化，光刻膠固化，鍍金方案中感濕膜烘烤工藝，車(chē)載玻璃鍍膜后退火，硅片（晶圓）高溫退火，pcb板防氧化烘烤，氟橡膠材料厭氧烘烤工藝，電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求

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上海百潔凈烘箱

上海百潔凈烘箱用于精密電子元件、高溫烘烤、堅(jiān)膜烘烤、半導(dǎo)體元件封裝、治具干燥、銀膠固化、晶圓退火、芯片高溫測(cè)試、

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充氮烤箱，銀膠固化氮?dú)夂嫦?/a>

充氮烤箱，銀膠固化氮?dú)夂嫦溆糜趇c芯片制造封裝過(guò)程的fol– epoxy cure 銀膠固化。

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集成電路封裝用氮?dú)夂嫦?/a>

集成電路封裝用氮?dú)夂嫦鋵⒀b片完成后的框架送入道烘箱，關(guān)閉倉(cāng)門(mén)、通入氮?dú)?、潔凈烘箱溫度提升?175℃，固化時(shí)間持續(xù)約 1 小時(shí)，從而使裝片時(shí)使用的導(dǎo)電銀膠固化。

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塑封固化用潔凈烘箱

塑封固化用潔凈烘箱采用自動(dòng)加熱的方式對(duì)其進(jìn)行保溫固化，固化溫度維持在 175℃，固化時(shí)間為 8 小時(shí)。塑封固化的主要作用是消除塑封料內(nèi)部的應(yīng)力。

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濕敏元件用烘箱

濕敏元件用烘箱滿(mǎn)足各種濕敏元件烘烤條件的用烘烤設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)：40℃～90℃ 低溫烘烤125℃~150℃ 烘烤及高溫試驗(yàn)

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高溫?zé)o氧烘箱520L

高溫?zé)o氧烘箱520l用于精密電子元件、銀膠固化、pi/bcb/bpo膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、晶圓退火電子陶瓷材料防氧化烘干、測(cè)試的特殊工藝要求。

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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱

hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

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濕敏薄膜用高溫?zé)o氧烘箱

濕敏薄膜用高溫?zé)o氧烘箱感濕膜為聚酰亞胺材料，采用旋涂的方法制備感濕層

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智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱，高溫?zé)o塵無(wú)氧化烘箱

智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱，高溫?zé)o塵無(wú)氧化烘箱又稱(chēng)為pi固化烘箱，厭氧烘箱，高溫?zé)o氧烘箱，用于pi、bcb膠高溫固化、lcp熱處理烘烤、光刻膠固化等電子，半導(dǎo)體、新材料行業(yè)。

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HMDS烘箱

hmds烘箱是將hmds蒸汽通過(guò)干燥的真空腔內(nèi)加熱到(120-150°c)，在襯底表面上hmds作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。

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氮?dú)庹婵諢犸L(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱

氮?dú)庹婵諢犸L(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱可達(dá)低氧濃度，厭氧烘烤、低真空熱處理烘烤。適用于bcb固化、pi聚酰亞胺固化、lcp纖維熱處理、光刻膠固化?？捎糜诎雽?dǎo)體、新材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。

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