產(chǎn)品介紹:感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及沉積、深反應(yīng)離子刻蝕(DRIE)及低溫等離子體增強化學氣相沉積(PEVCD)、
BM8-III 感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及沉積系統(tǒng)
高性能深反應(yīng)離子刻蝕(DRIE)及低溫等離子體增強化學氣相沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)
BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)是一款全新定義深反應(yīng)離子刻蝕(DRIE)及低溫低損傷 等離子體增強化學氣相沉積(PEVCD)等離子處理新概念的等離子處理系統(tǒng)。
該感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)基于模塊化設(shè)計制造,采用一款通用的真空處理艙及機柜。等離子處理系統(tǒng)采用感應(yīng)耦合等離子(ICP)電極及底部沉積電極模塊化設(shè)計理念,方便整體感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及沉積系統(tǒng)的組裝及配置。
該感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)帶給用戶方便操作,提供多種等離子處理工藝、方便維護及性價比高的系統(tǒng)比業(yè)內(nèi)其它感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)更具競爭力。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)主要性能簡介
等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的等離子處理設(shè)備。為了滿足等離子研究日新月異的要求,用戶選購的系統(tǒng)設(shè)備滿足最大范圍的等離子工藝參數(shù)需要、工藝驗證需要極其高的可重復性、必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)滿足這些非?量痰囊蟆
BM8-III是一款用于研究、工藝開發(fā)及其小批量生產(chǎn)的感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)工具,用于最大八英寸(203mm)基片的精密等離子刻蝕及沉積。該感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)也可以容納處理多塊晶圓片。
在設(shè)計BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)之初,主導指示就是創(chuàng)造一款融合高質(zhì)量、可靠、重復性及其用于生產(chǎn)系統(tǒng)的工藝控制能力為一體的等離子系統(tǒng);同時極大的降低主機成本、維護成本及占地面積小等要求。
BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)具有獨特的機體結(jié)構(gòu)和電極設(shè)計,方便安裝在層流模塊中或是超凈間。感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)的建造采用高質(zhì)量認可的部件、模塊化裝配、多功能真空艙體及其電極設(shè)計、結(jié)構(gòu)緊湊、自動化及業(yè)內(nèi)認可工藝程序使得BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)成為工藝工程師首選干法設(shè)備。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)特性
• 一體式真空艙體構(gòu)造
• 1000W@13.56MHz,射頻感應(yīng)耦合等離子(ICP)電源
• 600W@13.56 MHz 射頻 偏壓電源
• Auto RF matching 自動射頻匹配器
• 下游壓力控制
• 基于Windows操作系統(tǒng)軟件的電腦控制
• 多款真空泵浦系統(tǒng)選配:機械泵及渦輪增壓泵浦用于蝕刻;機械泵浦配備羅茨風機用于沉積;
• 業(yè)內(nèi)認可的部件
• 認證的工藝程序
• 終點探測檢測(選配) 感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)應(yīng)用
• 深反應(yīng)離子刻蝕(DRIE)
• 低損傷高速蝕刻速率
• 亞微米級蝕刻
• SiO2 及 Si3N4的低溫、低損傷等離子體增強化學氣相沉積(PEVCD)
• 聚酰亞胺蝕刻、鈍化層蝕刻(Polyimide etching 、Passivation etching)
• 碳納米管沉積
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)應(yīng)用
基于感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積系統(tǒng)建造的高質(zhì)量處理模塊,BM8-III滿足廣泛的等離子處理工藝條件,無論是復雜的亞微米級反應(yīng)離子刻蝕 (RIE)還是低溫下的高質(zhì)等離子體增強化學氣相沉積PEVCD薄膜的沉積。
基與眾多客戶群的緊密協(xié)作,我們開發(fā)出業(yè)內(nèi)認可的工藝程序,保證系統(tǒng)滿足用戶所需。用于生產(chǎn)制造的系統(tǒng)設(shè)備均采用最高質(zhì)量的部件,保證我們的系統(tǒng)提供最大可能的正常運行時間、 可靠性、重復性及耐用性。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格
BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)的廣泛使用得益于其高性價比、多功能設(shè)計模塊、提供其他同類感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)沒有的工藝優(yōu)勢。這些包括層流安裝、安裝占地面積小,多款電極配置,及其最大可滿足8英寸基片處理等。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)基本模塊
BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)的基本部件包括一款基于Windows的PC控制器及其菜單存儲、數(shù)碼質(zhì)量流量控制的四路通道控制(最大可擴展至六通道)、溫度補償式電容壓力計用于測量工藝真空度、100毫米真空通道用于最大工藝氣體電導、KF或ISO標準管件便于維護;及其它工藝及服務(wù)特性。工藝氣體導管未不銹鋼操作,配備VCE連接件。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)真空處理艙
BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)的真空處理艙采用整塊陽極氧化鋁合金建造成一體式設(shè)計。感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕、等離子體增強化學氣相沉積(PEVCD)系統(tǒng)均采用同樣的真空處理艙設(shè)計。真空處理艙上部部包括一個感應(yīng)耦合等離子(ICP)線圈及陶瓷窗;真空艙下部包括基片電極,真空泵浦接口及氣體必要的真空閥及其真空監(jiān)控設(shè)備。自動升降臺抬舉真空艙上部便于接近底部電極。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)電極配置
感應(yīng)耦合等離子(ICP)線圈及陶瓷窗同樣用于感應(yīng)耦合等離子(ICP)蝕刻機沉積系統(tǒng)之中。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)蝕刻電極特別為低真空范圍的最佳等離子性能設(shè)計。
不銹鋼材質(zhì)底部電極通過可選配冷卻循環(huán)器來控制溫度。感應(yīng)耦合等離子(ICP)線圈陽極采用暗區(qū)屏障設(shè)計,使等離子在兩塊電極之間產(chǎn)生。
感應(yīng)耦合等離子( ICP)及等離子體增強化學氣相沉積( PECVD) 底部電極采用類似的設(shè)計,電極最大可耐400℃高溫。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)電源
1000W@13.56MHz射頻電源給電感應(yīng)耦合等離子(ICP)線圈,在低等離子電位下產(chǎn)生等離子密度高達5 x 1011 eV/cm3(氬氣等離子),而第二套600W@13.56MHz 射頻電源給電基片電極產(chǎn)生射頻偏壓。所有的電源采用固態(tài)、風冷式,配備自動匹配器。這樣離子能量及離子密度可以分別控制。感應(yīng)耦合等離子(ICP)線圈位于真空艙外部,由陶瓷窗隔離;感應(yīng)耦合等離子(ICP)線圈處于大氣壓下,而非等離子產(chǎn)生環(huán)境中。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)工藝處理真空泵浦
根據(jù)用戶的工藝需要,BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)配備機械泵、機械泵及渦輪分子泵,或是帶魯氏鼓風機的機械泵。也可根據(jù)所需真空處理級別配備不同尺寸大小的真空泵浦。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)壓力控制
下游壓力控制提供了更加精密的工藝控制。閉環(huán)式壓力控制系統(tǒng)集成在真空處理艙和工藝處理真空泵浦之間。該控制系統(tǒng)包括一套100mm伺服電磁閥及壓力控制器與位于真空處理艙內(nèi)的電容壓力計相連接;提供了工藝壓力控制的完全自動化控制。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)控制器
控制器采用電腦控制整個系統(tǒng);Windows的控制軟件采用多屏幕顯示系統(tǒng)設(shè)備控制、數(shù)據(jù)記錄、稱呼設(shè)定及存儲,系統(tǒng)連鎖應(yīng)需配備。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)可在自動或手動模式下運行。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)選配件
為了增強系統(tǒng)的工藝處理能力,BM8-III感應(yīng)耦合等離子(ICP)系統(tǒng)提供廣泛的工藝處理選項,包括終點檢測、水冷器(用于冷卻電極)、油霧分離器及吹掃系統(tǒng)、下周壓力控制、硬質(zhì)陽極氧化真空艙。工藝廢氣處理系統(tǒng)也可提供。
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)外觀尺寸
寬: 118cm
深: 95cm
機柜高度: 91cm
整機高度: 137cm
重量: 約227公斤
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)安裝條件
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)主機 220V, 50/60Hz, 20A
感應(yīng)耦合等離子(ICP)刻蝕及等離子沉積處理系統(tǒng)真空泵浦: 220V, 60Hz, 10 Amps (僅限機械真空泵浦) 220V, 50Hz, 5 Amps
冷卻水:用于電極冷卻5.5L/min (20℃)
大氣: 用于電磁閥控制 (0.55MPa)
氮氣:N2: 0.1~0.14MPa (用于真空處理艙吹掃))
氣源: 等離子處理工藝氣體, VCR 管件
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大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒產(chǎn)品詳情如下:
英文名稱:Rat PICP (Procollagen I C-terminal Propeptide) ELISA Kit
ELISA試劑盒規(guī)格 | 48T | 96T | 保存 |
酶標包被板 | 1X48 | 1X96 | 4℃/-20℃ |
標準品 | 0.5ml X 1瓶 | 0.5ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
標準品稀釋液 | 1.5ml X 1瓶 | 1.5ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
酶標試劑 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
樣品稀釋液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
顯色劑A液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
顯色劑B液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
終止液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
25倍濃縮洗滌液 | 20ml X 1瓶 | 20ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
封板膜 | 2片 | 2片 |
|
密封袋 | 1個 | 1個 |
|
說明書 | 1份 | 1份 |
|
產(chǎn)品保存及期限:2℃-8℃保存6個月
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒是用于測定血清,血漿及相關(guān)液體樣本中總待測物質(zhì)的含量。
本試劑盒應(yīng)用酶聯(lián)免疫ELISA檢測法測定標本中待測物質(zhì)水平,用純化的待測物質(zhì)抗體包被微孔板,制成固相抗體,往包被單抗的微孔中依次加入代測物質(zhì),再與HRP標記的待測物質(zhì)抗體結(jié)合,形成抗體-抗原-酶標抗體復合物,經(jīng)過徹底洗滌后加底物TMB顯色。TMB在HRP酶的催化下變成藍色,并在酸的作用下轉(zhuǎn)化成最終的黃色,顏色的深淺和樣品中的待測物質(zhì)呈正相關(guān)。用酶標儀在450nm波長下測定吸光度(OD值),通過標準曲線計算樣品中待測物質(zhì)濃度。
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒數(shù)值計算:
以標準物的濃度為橫坐標,OD值為縱坐標,在坐標紙上繪出標準曲線,根據(jù)樣品的OD值由標準曲線查出相應(yīng)的濃度;再乘以稀釋倍數(shù);或用標準物的濃度與OD值計算出標準曲線的直線回歸方程式,將樣品的OD值代入方程式,計算出樣品濃度,再乘以稀釋倍數(shù),即為樣品的實際濃度。
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒操作步驟示意圖:
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒注意事項:
1.試劑盒從冷藏環(huán)境中取出應(yīng)在室溫平衡15-30分鐘后方可使用,酶標包被板開封后如未用完,板條應(yīng)裝入密封袋中保存。2.濃洗滌液可能會有結(jié)晶析出,稀釋時可在水浴中加溫助溶,洗滌不影響結(jié)果。3.各步加樣均應(yīng)使用加樣器,并經(jīng)常校對其準確性,以避免試驗誤差。一次加樣時間最好控制在5分鐘內(nèi),如標本數(shù)量多,推薦使用排槍加樣。4.請每次測定的同時做標準曲線,最好做復孔。如標本中待測物質(zhì)含量過高(樣本OD值大于標準品孔第一孔的OD值),請先用樣品稀釋液稀釋一定倍數(shù)(n 倍)后再測定,計算時請最后乘以總稀釋倍數(shù)(×n×5)。5.封板膜只限一次性使用,以避免交叉污染,底物請避光保存。6.嚴格按照說明書的操作進行,試驗結(jié)果判定必須以酶標儀讀數(shù)為準。7.所有樣品,洗滌液和各種廢棄物都應(yīng)按傳染物處理。8.如與英文說明書有異,以英文說明書為準。
公司物流服務(wù)說明:
1、絕大部分產(chǎn)品備有現(xiàn)貨,一般情況下都能訂貨當日發(fā)貨。2、部分非常用產(chǎn)品,需提前1-2日預訂,訂購進口ELISA試劑盒,則需要提前1-2周時間預訂。3、部分產(chǎn)品價格會因貨期、批次等因素發(fā)生變化,若有變動以訂貨當日最新報價為準。4、每日訂單截止時間為17:30整,因超過截止時間造成當日不能發(fā)貨的將于次日安排發(fā)貨。5、訂貨,咨詢請致電我司銷售人員或QQ線上報價,如需產(chǎn)品圖片,電子檔中英文說明書等請留下您的EMAIL郵箱,微信,QQ等聯(lián)系方式
公司售后服務(wù):
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小鼠CD163分子(CD163)ELISA試劑盒 Mouse CD163 (Cluster of Differentiation 163) ELISA Kit
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人白血病抑制因子(LIF)ELISA試劑盒 Human LIF (Leukemia Inhibitory Factor) ELISA Kit
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人Sec23bELISA試劑盒 Human Sec23b (protein transport protein Sec23B) ELISA Kit
人P62抗體(AP62A)ELISA試劑盒 Human AP62A (Anti-P62 Antibody) ELISA Kit
人IV型膠原α1(COL4α1)ELISA試劑盒 Human COL4α1 (Collagen Type IV Alpha 1) ELISA Kit
人α乳清蛋白(α-La)ELISA試劑盒 Human α-La (Alpha-Lactalbumin) ELISA Kit
兔Fas凋亡抑制分子3(FAIM3)ELISA試劑盒 Rabbit FAIM3 (Fas Apoptotic Inhibitory Molecule 3) ELISA Kit
大鼠八聚體結(jié)合轉(zhuǎn)錄因子4(OCT4)ELISA試劑盒 Rat OCT4 (Octamer Binding Transcription Factor 4) ELISA Kit
豬XI型膠原α1(COL11α1)ELISA試劑盒 Porcine COL11α1 (Collagen Type XI Alpha 1) ELISA Kit
猴Bcl-2相關(guān)X蛋白(BAX)ELISA試劑盒 Monkey Bax (Bcl-2 Associated X Protein) ELISA Kit
大鼠分泌性白細胞肽酶抑制劑(SLPI)ELISA試劑盒 Rat SLPI (Secretory Leukocyte Peptidase Inhibitor) ELISA Kit
大鼠8-異構(gòu)前列腺素F2α(8-epi-PGF2α)ELISA試劑盒 Rat 8-epi-PGF2α (8-Epi-Prostaglandin F2 Alpha) ELISA Kit
上海戶實愿意做您在實驗中可靠的伙伴,風雨無阻,讓我們攜手共進,共創(chuàng)輝煌!
一、儀器整機主要性能參數(shù):
1、波長范圍:190~500nm(3600L/mm光柵)或190~800nm(2400L/mm光柵);
2、分辨率: 0.006nm(3600L/mm光柵)或0.01nm(2400L/mm光柵);
3、波長示值誤差和重復性:波長示值誤差≤0.02nm,重復性≤0.003nm;
4、掃描步距:0.0004nm;
5、重復性:RSD≤1.0%;
6、穩(wěn)定性:RSD≤1.5%;
7、檢出限:ppb級;
8、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素;
9、線性范圍:7個數(shù)量級以上,且自吸效應(yīng)極低;
10、分析速度:每分鐘掃描25個元素以上;
11、等級證書:國家計量器具型式許可A級(且遠優(yōu)于A級)。
二、儀器各部件詳細參數(shù):
射頻發(fā)生器(RF)
(1)電路類型:電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號,進行閉環(huán)自動控制;
(2)工作頻率:40.68MHz±0.05%;
(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%;
(4)輸出功率:800~1200W;
(5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.2%;
(6)電磁場泄漏射強度:距機身20cm 處,電場強度:E<2 V / m。
進樣裝置
(1)輸出工作線圈:內(nèi)徑25mm、3匝;
(2)炬管:三同心型,外徑20mm的石英炬管;
(3)同軸型噴霧器:外徑6mm;
(4)雙筒型霧室:外徑35mm;
(5)觀測位置:縱向觀察高低和橫向觀察前后,可通過軟件直觀地調(diào)為最佳;
(6)氬氣流量計規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:
1、等離子氣流量計:(100~1000)L/h (1.6~16L/min);
2、輔助氣流量計:(10~100)L/h (0.16~1.66L/min);
3、載氣流量計:(10~100)L/h (0.16~1.66L/min);
4、載氣穩(wěn)壓閥:(0~0.4Mpa)L/h;
5、冷卻水:水溫:15~25℃ 流量>5L/min 水壓>0.1Mpa 冷卻水:電阻率>1MΩ。
分光器
(1)光路:Czerny-Turner;
(2)焦距:1000mm;
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;刻線密度3600L/mm,刻線面積:80×110mm(或刻線密度2400L/mm,刻線面積:80×110mm);
(4)線色散率倒數(shù):0.26nm/mm;
(5)分辨率:≤0.006nm全波段;
(6)掃描波長范圍:190~500nm,3600L/mm光柵;190~800nm,2400 L/mm光柵;
(7)掃描步距:0.0004nm;
(8)出射、入射狹縫:20μm×25μm;
(9)反射鏡規(guī)格:(78×105×16)mm;
(10)透鏡:φ30,1:1成像;
(11)反射鏡規(guī)格:凹型;
(12)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。
測光裝置
(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928;
(2)光電倍增管負高壓:-200~-1000V,自動調(diào)節(jié),穩(wěn)定性<0.05%;
(3)光電倍增管電流測量范圍:10-4~10-12A;
(4)信號采集為V/F交換:1mV對應(yīng)100Hz;
(5)采樣電路:使用國外高精密度運算放大器,使儀器的靈敏度和精確度大大提高;
(6)儀器數(shù)據(jù)采集:通過串口與電腦連接,從而簡化了電路使連接更加便捷;
(7)測光方式:單、多元素順序測量。
操作軟件:
(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺;
(2)測定波長數(shù):任意選擇;
(3)分析速度:每分鐘25個元素以上;
(4)數(shù)據(jù)庫:譜線庫11萬條以上;
(5)多窗口:在測量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時、測量下一樣品;
(6)標準加入法:軟件要有標準加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;
(7)分析模式:軟件默認最佳分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能;
(8)歷史數(shù)據(jù)庫:在歷史數(shù)據(jù)庫中,可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;
(9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機打印分析結(jié)果。
應(yīng)用領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等,從超微量到常量的定性或定量分析。公司介紹:惠州市華高儀器設(shè)備有限公司成立于2012年,是專業(yè)經(jīng)營進口、國產(chǎn)高端品牌儀器設(shè)備的高科技含量的民營企業(yè)。公司致力于新技術(shù)開發(fā)、創(chuàng)新,不斷推出適用于電子市場需求的測試儀器、設(shè)備。
經(jīng)營主要產(chǎn)品:XRF測試儀、RoHS檢測儀、x射線儀器、色譜、質(zhì)譜、光譜、表面分析儀、直讀光譜儀、元素分析儀、無損檢測儀、三坐標測量系統(tǒng)、TVOC檢測儀、氣體分析儀、滴水角測試儀、測色儀、環(huán)境試驗設(shè)備、玩具安全測試儀等。儀器儀表
經(jīng)營主要品牌:SPECTRO、賽默飛世爾、日本日立、海克斯康、華唯計量等在中國區(qū)的授權(quán)代理商,以及日本島津、瑞士萬通、等知名品牌在華南主要經(jīng)銷商。日本三豐,奧林巴斯、蔡司、美國博曼、美國伊諾斯、牛津、德國斯派克、日本美能達、美國Interscan、思瑞測量、七海測量、西安力德、愛斯佩克惠州特約經(jīng)銷商。
公司本著專業(yè)為上、服務(wù)為先、誠信為本、踏實敬業(yè)、載譽天下的經(jīng)營理念。在已有成績的基礎(chǔ)上,近年來一直不斷拓寬產(chǎn)品線,提高銷售人員素質(zhì),建設(shè)完善售后服務(wù)團隊,致力于將國內(nèi)外最好的產(chǎn)品推薦給用戶,并把客戶的滿意度作為公司的最高榮譽;公司經(jīng)過數(shù)年耕耘,已經(jīng)擁有數(shù)量眾多的用戶。熱忱歡迎廣大新老客戶前來洽購、指導!
儀器各部件詳細參數(shù):
射頻發(fā)生器(RF)
(1)電路類型:電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號,進行閉環(huán)自動控制;
(2)工作頻率:40.68MHz±0.05%;
(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%;
(4)輸出功率:800~1200W;
(5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.2%;
(6)電磁場泄漏射強度:距機身20cm 處,電場強度:E<2 V / m。
進樣裝置
(1)輸出工作線圈:內(nèi)徑25mm、3匝;
(2)炬管:三同心型,外徑20mm的石英炬管;
(3)同軸型噴霧器:外徑6mm;
(4)雙筒型霧室:外徑35mm;
(5)觀測位置:縱向觀察高低和橫向觀察前后,可通過軟件直觀地調(diào)為最佳;
(6)氬氣流量計規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:
1、等離子氣流量計:(100~1000)L/h (1.6~16L/min);
2、輔助氣流量計:(10~100)L/h (0.16~1.66L/min);
3、載氣流量計:(10~100)L/h (0.16~1.66L/min);
4、載氣穩(wěn)壓閥:(0~0.4Mpa)L/h;
5、冷卻水:水溫:15~25℃ 流量>5L/min 水壓>0.1Mpa 冷卻水:電阻率>1MΩ。
分光器
(1)光路:Czerny-Turner;
(2)焦距:1000mm;
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;刻線密度3600L/mm,刻線面積:80×110mm(或刻線密度2400L/mm,刻線面積:80×110mm);
(4)線色散率倒數(shù):0.26nm/mm;
(5)分辨率:≤0.006nm全波段;
(6)掃描波長范圍:190~500nm,3600L/mm光柵;190~800nm,2400 L/mm光柵;
(7)掃描步距:0.0004nm;
(8)出射、入射狹縫:20μm×25μm;
(9)反射鏡規(guī)格:(78×105×16)mm;
(10)透鏡:φ30,1:1成像;
(11)反射鏡規(guī)格:凹型;
(12)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。
測光裝置
(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928;
(2)光電倍增管負高壓:-200~-1000V,自動調(diào)節(jié),穩(wěn)定性<0.05%;
(3)光電倍增管電流測量范圍:10-4~10-12A;
(4)信號采集為V/F交換:1mV對應(yīng)100Hz;
(5)采樣電路:使用國外高精密度運算放大器,使儀器的靈敏度和精確度大大提高;
(6)儀器數(shù)據(jù)采集:通過串口與電腦連接,從而簡化了電路使連接更加便捷;
(7)測光方式:單、多元素順序測量。
操作軟件:
(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺;
(2)測定波長數(shù):任意選擇;
(3)分析速度:每分鐘25個元素以上;
(4)數(shù)據(jù)庫:譜線庫11萬條以上;
(5)多窗口:在測量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時、測量下一樣品;
(6)標準加入法:軟件要有標準加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;
(7)分析模式:軟件默認最佳分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能;
(8)歷史數(shù)據(jù)庫:在歷史數(shù)據(jù)庫中,可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;
(9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機打印分析結(jié)果。
| 檢出限 | 波長 |
| 檢出限 | 波長 |
| 檢出限 | 波長 |
| 檢出限 | 波長 |
Ag | 0.003 | 328.07 | Al | 0.008 | 309.27 | As | 0.03 | 189.04 | Au | 0.008 | 242.80 |
B | 0.002 | 249.77 | Ba | 0.002 | 455.40 | Be | 0.001 | 313.04 | Bi | 0.04 | 223.06 |
Ca | 0.002 | 393.37 | Cd | 0.002 | 214.44 | Ce | 0.02 | 413.76 | Co | 0.004 | 238.62 |
Cr | 0.003 | 205.55 | Cu | 0.002 | 324.75 | Dy | 0.008 | 353.17 | Er | 0.005 | 337.27 |
Eu | 0.001 | 381.97 | Fe | 0.002 | 238.20 | Ga | 0.02 | 294.36 | Gd | 0.007 | 342.25 |
Ge | 0.02 | 209.43 | Hf | 0.008 | 277.34 | Hg | 0.02 | 194.23 | Ho | 0.004 | 345.60 |
I | 0.1 | 206.24 | In | 0.04 | 230.61 | Ir | 0.02 | 224.27 | La | 0.002 | 394.91 |
Li | 0.002 | 470.78 | Lu | 0.005 | 261.54 | Mg | 0.005 | 279.55 | Mn | 0.005 | 257.61 |
Mo | 0.004 | 202.03 | Nb | 0.005 | 309.42 | Nd | 0.03 | 401.23 | Ni | 0.008 | 221.65 |
Os | 0.004 | 225.59 | P | 0.05 | 213.62 | Pb | 0.03 | 220.35 | Pd | 0.02 | 340.46 |
Pr | 0.02 | 390.84 | Pt | 0.02 | 214.42 | Rb | 0.3 | 780.02 | Re | 0.006 | 221.43 |
Rh | 0.02 | 233.48 | Ru | 0.02 | 240.27 | Sb | 0.03 | 206.83 | Sc | 0.008 | 361.38 |
Se | 0.06 | 196.09 | Si | 0.008 | 251.61 | Sm | 0.02 | 359.26 | Sn | 0.02 | 289.98 |
Sr | 0.008 | 407.77 | Ta | 0.03 | 226.23 | Tb | 0.02 | 350.92 | Te | 0.04 | 214.28 |
Th | 0.04 | 283.73 | Ti | 0.002 | 334.94 | Tl | 0.04 | 190.86 | Tm | 0.004 | 313.13 |
U | 0.08 | 385.96 | V | 0.003 | 309.31 | W | 0.015 | 207.91 | Y | 0.001 | 371.03 |
Yb | 0.001 | 328.94 | Zn | 0.002 | 202.55 | Zr | 0.002 | 343.82 |
|
|
德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應(yīng)離子刻蝕機-----上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟南/廣州
SENTECH儀器(德國)有限公司研發(fā)、制造和銷售先進的薄膜測量儀器(光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀)、光伏測量儀器(在線和離線測量工具)和等離子工藝設(shè)備(等離子刻蝕機、等離子沉積系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)、用戶定制多腔系統(tǒng))。 儀器廣泛應(yīng)用于微電子、光電、納米技術(shù)、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發(fā)領(lǐng)域。
NOVTEC寓意“科技創(chuàng)新”,即諾威特測控科技有限公司,在德國、日本設(shè)有代表處,多年來致力于將世界著名品牌的高科技產(chǎn)品帶給中國及亞洲的廣大用戶,并為客戶提供完善的售后服務(wù),協(xié)助他們提高生產(chǎn)技術(shù)水平、競爭力及增加盈利,專業(yè)從事工業(yè)測量與測試產(chǎn)品的銷售與研發(fā),擁有產(chǎn)品研發(fā)中心、研究院和生產(chǎn)工廠,技術(shù)力量雄厚。
產(chǎn)品簡介
SI 500為研發(fā)和小批量生產(chǎn)應(yīng)用提供先進的ICP刻蝕工藝,具備高度的靈活性和模塊化設(shè)計特點,可實現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質(zhì)、石英、玻璃、硅和硅化合物等。
SI 500C低溫ICP刻蝕機,可在-100℃左右的低溫下實現(xiàn)深硅刻蝕。優(yōu)點是刻蝕后形成非常光滑的側(cè)壁,尤其在光學應(yīng)用上非常重要。同時低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實現(xiàn)刻穿樣片。
SI 591 采用模塊化設(shè)計、具有高度靈活性,適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝,可配置為單反反應(yīng)腔系統(tǒng)、或帶預真空室或片盒站的多腔系統(tǒng)。特別適用于采用氟基氣體的工藝,具有很高的工藝穩(wěn)定性和重復性。
型號
SI 500 | ICP刻蝕機 | -30~+200℃ |
|
SI 500C | 低溫ICP刻蝕機 | -150~+400℃ |
|
SI 500-30 | ICP刻蝕機 | 帶預真空室 | 最大12寸晶圓 |
SI 591 | 反應(yīng)離子刻蝕機 | 帶預真空室 |
|
Etchlab200 | 反應(yīng)離子刻蝕機 | 不帶預真空室 |
|
SI500-RIE | 反應(yīng)離子刻蝕機 | 帶預真空室 | 帶氦氣背冷卻系統(tǒng) |
具體型號及技術(shù)要求歡迎來電咨詢
中國代理
蘇州諾威特測控科技有限公司
Add:中國蘇州市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)金楓南路198號
聯(lián)系人:鄒小姐
Tel:18913500435
E-mail:info@novtec.hk
http://www.novtec.hk
ICP2060T電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀特別適合用于測定各種石化產(chǎn)品中常量、微量、痕量元素的含量。 儀器擁有專業(yè)完善的油品直接進樣測量技術(shù),可智能調(diào)節(jié)氧氣流量消除積碳影響,、抗干擾性強、自動化程度高、操作簡便、穩(wěn)定、測試范圍廣、分析速度快、檢出限低等特點 性能特點 的油品直接進樣測量技術(shù) 智能調(diào)節(jié)氧氣流量,消除積碳影響 可測元素70多種 分析速度快,一分鐘可測5-8個元素 多元素同時分析,客戶可以自由選擇元素數(shù)量與安排測量順序 檢出限低,可達到ppb量級 線性動態(tài)范圍寬,高達6個數(shù)量級,高低含量可以同時測量 分析成本低,一瓶氬氣可以用10-12小時 氬氣消耗量低 氬氣總消耗量小于14L/min. 波長范圍寬 選擇3600條刻線光柵,波長范圍可達190nm-500nm 選擇2400條刻線光柵,波長范圍可達190nm-800nm 全自動化設(shè)計 自動化程度高,整臺儀器除了電源開關(guān),儀器所有功能都是通過計算機控制,、安全、方便。 性能的增強有機進樣系統(tǒng) 天瑞特有的增強有機進樣系統(tǒng),支持油品直接進樣測量,可針對不同種類的樣品智能精密調(diào)節(jié)氧氣流量,消除積碳影響,、穩(wěn)定,滿足不同客戶的需求。 氣體流量自動控制 進樣系統(tǒng)中,載氣、等離子氣、輔氣、助燃氣全部采用的質(zhì)量流量控制器(MFC)來控制,具有流量連續(xù)可調(diào)、流量穩(wěn)定等優(yōu)點,確保了進樣系統(tǒng)的穩(wěn)定,為光源的穩(wěn)定提供了堅強的保障。 蠕動泵 四通道全自動設(shè)計,轉(zhuǎn)速可根據(jù)流量需求調(diào)節(jié)設(shè)置,確保進樣系統(tǒng)穩(wěn)定。 穩(wěn)定的全固態(tài)射頻電源 儀器采用的射頻電源為天瑞儀器自主研發(fā)的全固態(tài)射頻電源,具有體積小、效率高、輸出功率穩(wěn)定、帶有各種保護功能等諸多優(yōu)點,進一步提高了儀器的穩(wěn)定性與安全性。 快速的全自動匹配功能 負載終端采用天瑞儀器自主研發(fā)的全自動匹配技術(shù),具有匹配速度快、精度高等優(yōu)點,適合油品等復雜基體直接進樣;確保了輸出功率最大限度的加到了負載上面,提高電源的使用效率,從而提高儀器的穩(wěn)定性,并使得整個點火過程方便簡單。 性能穩(wěn)定的光學系統(tǒng) 光路系統(tǒng)精密恒溫,溫度穩(wěn)定性±0.1°C;分光室采用二重防震設(shè)計,大幅提高了儀器的穩(wěn)定性。 人性化的設(shè)計,使得檢測變得輕松、愜意 一鍵點火 配合天瑞的固態(tài)電源與自動匹配技術(shù),ICP2060T的實現(xiàn)了一鍵點火功能。用戶只需點擊點火按鈕,儀器自動進行氣體吹掃、氣體流量檢查、點火、匹配等諸多動作,并將信息實時傳遞給客戶,讓客戶省心省事。 觀測高度調(diào)節(jié)自動化 可通過軟件調(diào)整炬焰的觀測高度減少基體效應(yīng),在的位置得到的測量效果。 強大的圖形診斷功能 強大的圖形診斷功能可以幫助客戶充分的了解當前儀器的工作狀態(tài),并通過適當?shù)膮?shù)設(shè)置來觀察不同條件下儀器的運行狀況,以把握的測量條件。 多元素自動測量 選擇需要測量的各個元素,設(shè)定好測量參數(shù),一切交給儀器,直接得到所有元素的測量結(jié)果,簡單、省事。 強大的數(shù)據(jù)庫管理 擁有幾千條譜線,可以根據(jù)需要與愛好選擇適當?shù)淖V線,避開可能存在的干擾,為您提供更多的選擇,更合理的推薦,讓測試變得更加專業(yè)與。 軟件擁有自主知識產(chǎn)權(quán),功能強大,操作人性化 ICP2060T 軟件功能強大,具有中英文自動切換功能,可進行定性、定量分析;有數(shù)據(jù)再處理功能;自動計算元素含量,自動生成測試報告;具有數(shù)據(jù)篩選功能,剔除不想要的數(shù)據(jù);數(shù)據(jù)庫管理完善,可以自由保存與刪除。 測試完畢后可以生成檢測報告,檢測報告內(nèi)容可以根據(jù)用戶需求選擇,包括方法名稱、儀器型號、元素、波長、強度、含量、相對標準偏差、單位、檢測員、備注、校正人等,同時分析結(jié)果可以保存為pdf、word、excel等文件,方便用戶分析。 軟件界面設(shè)計人性化,簡單明了,大大提高了分析效率。軟件主界面集成軟件的主要功能,包括控制等離子點火和滅火、儀器狀態(tài)、分析參數(shù)、分析譜線、波長譜圖顯示、曲線擬合、數(shù)據(jù)處理、歷史譜圖、歷史數(shù)據(jù)、用戶管理等諸多功能。 產(chǎn)品規(guī)格與技術(shù)指標 體積:臺式,放在桌面,1.5m×0.8m×0.8m 固態(tài)電源 工作頻率:27.12MHz 頻率穩(wěn)定性:<0.05% 匹配方式:自動匹配 輸出功率:800W ~1600W,連續(xù)可調(diào),電源效率大于65% 輸出功率穩(wěn)定性:≤0.2% 輸出工作線圈內(nèi)徑25mm、3匝,配三同心外徑20mm的石英炬管 同軸型霧化器外徑6mm 掃描分光器 光路:Czerny turner型 焦距:1000mm 光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度3600L/mm或2400L/mm;刻劃面積(80×110)mm 分辨率:≤0.008nm(3600線光柵) ≤0.015nm(2400線光柵) 掃描波長范圍:3600線光柵:(190~500) nm;2400線光柵:(190~800) nm 電子測量及控制電路 光電倍增管規(guī)格:R212/R928 光電倍增管負高壓:(-50~-1000)V 光電倍增管電流測量范圍:(10-12~10-4)A 信號采集:VF轉(zhuǎn)換 計算機系統(tǒng) 主機:聯(lián)想品牌電腦 顯示器:17英寸液晶顯示器 打印機:Canon噴墨打印機 整機技術(shù)指標 掃描波長范圍:190nm~500nm(3600L/mm光柵),190nm~800nm(2400L/mm光柵) 測量范圍 含量:0.01ppm-幾千ppm; 重復性:(即短期穩(wěn)定度)相對標準偏差RSD≤1.5%; 穩(wěn)定性:相對標準偏差RSD≤2%; 測試速度:5-8元素/每分鐘 配置: 1、ICP2060T通信網(wǎng)線 2、氣管 3、交流參數(shù)穩(wěn)壓器 4、氣體減壓閥 5、ICP2060T電源線 6、自動溫控冷卻循環(huán)水箱 7、接地銅板 8、水管 9、接地銅帶 10、炬管 11、進口霧化器 12、增強有機進樣系統(tǒng) 工作環(huán)境 貯存運輸溫度:15℃-25℃ 貯存運輸相對濕度:≤70% 電源適應(yīng)能力:220±10v 50-60Hz 工作濕度:≤70% 工作溫度:15℃-30℃ 應(yīng)用領(lǐng)域 測試原油中的30多種元素,主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等。 測定汽油中的鐵、錳、鉛、硅等; 潤滑油中添加劑、磨損元素的測定; 基礎(chǔ)油中多元素的測定; 甲醇中鈉元素的測定; 油田示蹤劑的測定等。 |