光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家

氮化鎵支撐片，晶片，硅片
2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片
更新時(shí)間:2025-12-12
法國(guó)Annealsys 高溫退火爐
法國(guó)annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備，適用于硅，化合物半導(dǎo)體，太陽(yáng)能電池& mems.
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德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì)，可以裝配各種源爐，實(shí)現(xiàn)不同材料分子束外延生長(zhǎng)。
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德國(guó) KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v300e 單探頭超聲波掃描顯微鏡，掃描機(jī)械機(jī)構(gòu)
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日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
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日本JEOL發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
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日本JEOL能譜儀
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過(guò)與sem的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)聯(lián)動(dòng)使用，可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過(guò)檢測(cè)被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線分析及面分析。
更新時(shí)間:2025-12-12
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無(wú)縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
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英國(guó)HHV 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)
英國(guó)hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設(shè)計(jì)用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個(gè)特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場(chǎng)上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動(dòng)開(kāi)關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開(kāi)關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護(hù)腔室內(nèi)工藝組件。
更新時(shí)間:2025-12-12
日本JEOL 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒(méi)式肖特基電子槍技術(shù)，標(biāo)配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無(wú)論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
更新時(shí)間:2025-12-12
百及納米PancanNano電子束光刻機(jī)
新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫(xiě)場(chǎng)拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
更新時(shí)間:2025-12-12
OptiCool超精準(zhǔn)全開(kāi)放強(qiáng)磁場(chǎng)低溫光學(xué)研究平臺(tái)
opticool超精準(zhǔn)全開(kāi)放強(qiáng)磁場(chǎng)低溫光學(xué)研究平臺(tái)，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場(chǎng)。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線由各個(gè)方向引入樣品腔，高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場(chǎng)的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時(shí)間:2025-12-12
低溫強(qiáng)磁場(chǎng)原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場(chǎng)原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺(tái)，用戶僅需要更換掃描頭和對(duì)應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時(shí)間:2025-12-12
德國(guó)Sentech光伏測(cè)量?jī)x
德國(guó)sentech光伏測(cè)量?jī)xmdpmap，靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng)，是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過(guò)的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測(cè)量而設(shè)計(jì)的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測(cè)量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動(dòng)力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測(cè)量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-12-12
接觸角測(cè)量?jī)x
100s接觸角測(cè)量?jī)x是采用光學(xué)成像的原理，通過(guò)圖像輪廓分析方式測(cè)量樣品表面接觸角、潤(rùn)濕性能、表界面張力、表面能等性能，設(shè)備性價(jià)比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測(cè)量需要。
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德國(guó)KRUSS標(biāo)準(zhǔn)型DSA25接觸角測(cè)量?jī)x
德國(guó)kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測(cè)量?jī)x，接觸角測(cè)量范圍：0-180，接觸角測(cè)量精度：±0.10，表界面張力測(cè)量范圍：0-1000mn/m；測(cè)量精度：0.01 mn/m
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日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：ka-05( 光散射方式）,多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑（2個(gè)通道）：≥0.5μm ， ≥5.0μm
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日本RIO液體粒子計(jì)數(shù)器
日本rio液體粒子計(jì)數(shù)器ke-18fx ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（4個(gè)通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
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日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法），大粒子數(shù)濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（8個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可選 ≥150μm）
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日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個(gè)通道，工廠標(biāo)配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
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美Nano-master ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)
美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺(tái)式ald系統(tǒng)
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美Nano-master RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨(dú)立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨(dú)立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺(tái)式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
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美Nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng)
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測(cè)試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測(cè)試。
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美NANO-MASTER RTP快速退火爐
美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨(dú)立式全自動(dòng)rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨(dú)立式全自動(dòng)rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨(dú)立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨(dú)立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺(tái)式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射
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美NANO-MASTER SWC單晶圓清洗系統(tǒng)
美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺(tái)式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機(jī)械手自動(dòng)清洗nrt-4000 獨(dú)
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美Nano-master 大基片清洗機(jī)
美nano-master 大基片清洗機(jī) large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨(dú)立式清洗機(jī)，使用計(jì)算機(jī)控制，大可支持外徑21”的基片。
更新時(shí)間:2025-12-12
韓國(guó)Ecopia 全自動(dòng)變溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
韓國(guó)ecopia 全自動(dòng)變溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 hms-5300lth,溫度范圍：80k-573k,測(cè)量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導(dǎo)體薄膜(p 型和 n 型)；
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英國(guó)Quorum鍍金鍍碳一體機(jī)
英國(guó)quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機(jī)，是一款優(yōu)化設(shè)計(jì)的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設(shè)備，真空度可達(dá)5x10-5mbar？梢詾R射具有超細(xì)成膜顆粒的易氧化金屬，適用于高分辨率成像。同樣地，低散射可得到均勻而致密的無(wú)定形碳膜。
更新時(shí)間:2025-12-12
SUSS光刻機(jī)用曝光燈HBO系列
suss蘇斯/休斯，evg, oai等系列光刻機(jī)用曝光燈hbo系列，suss蘇斯，evg, oai公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體和太陽(yáng)能行業(yè)用光刻機(jī)，目得到業(yè)界的廣泛認(rèn)同，該系列光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的曝光燈，主要是由德國(guó)歐司朗及日本牛尾公司生產(chǎn)的曝光燈進(jìn)行配套供應(yīng)。歐司朗/牛尾曝光燈系列，具備良好的光通量，穩(wěn)定的光強(qiáng)度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。
更新時(shí)間:2025-12-12
ADLEMA檢漏機(jī)
adlema先進(jìn)的檢漏機(jī)bt4000技 術(shù) 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新時(shí)間:2025-12-12
美國(guó)KLA 原位高溫納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)，納米壓痕儀
美國(guó)kla insem ht原位高溫納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)，納米壓痕儀，樣品加溫可達(dá)800 ℃，樣品尺寸可達(dá)10mm，裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
更新時(shí)間:2025-12-12
紫外光刻機(jī)
ure-2000/34al型光刻機(jī)，曝光分辨率： 0.8μm-1μm ，套準(zhǔn)精度：±0.8-1μm
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美國(guó)Trion 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
orion hdcvd 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過(guò)氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí)，會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，然后在襯底表面沉積一層薄膜.
更新時(shí)間:2025-12-12
德Zeiss 電子束直寫(xiě)儀
德zeiss sigma sem 電子束直寫(xiě)儀,利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫(xiě)各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等沿域。
更新時(shí)間:2025-12-12
俄羅斯 Optosystem 準(zhǔn)分子激光器
俄羅斯 optosystem 準(zhǔn)分子激光器：cl7000, 準(zhǔn)分子激光器是傳統(tǒng)的氣體激光器，由于波長(zhǎng)短（紫外），短脈沖寬度，高脈沖能量，是激光器家族不可替代的品種！應(yīng)用上，準(zhǔn)分子激光器在脈沖沉積鍍膜（pld），光纖光柵刻寫(xiě)，lasik，光刻，微納加工等方面占主導(dǎo)的地位。
更新時(shí)間:2025-12-12
英國(guó) DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái)
denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái),提供了薄膜工業(yè)中廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
更新時(shí)間:2025-12-12
英國(guó) Denton 熱蒸發(fā)濺射儀
denton 熱蒸發(fā)濺射儀dv-502b，在大氣和高真空之間快速循環(huán)。
更新時(shí)間:2025-12-12
法Plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)
法plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)meb550sl3，可以用于沉積ti, ni, au, cr, al, al2o3等金屬及氧化物薄膜，目全球主要超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。
更新時(shí)間:2025-12-12
臺(tái)式三維原子沉積系統(tǒng)ALD
美arradiance 臺(tái)式三維原子沉積系統(tǒng)ald，在小巧的機(jī)身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可最多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。gemstar xt全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計(jì)，使溫度均勻性高達(dá)99.9%，氣流對(duì)溫度影響減少到0.03%以下。
更新時(shí)間:2025-12-12
德國(guó) Sentech 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積系統(tǒng)
德國(guó) sentech pe-ald 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積系統(tǒng)，是在3d結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過(guò)在工藝循環(huán)過(guò)程中在真空腔室分步加入置物實(shí)現(xiàn)。等離子增強(qiáng)原子層沉積（peald）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來(lái)增強(qiáng)ald性能的先進(jìn)方法。
更新時(shí)間:2025-12-12
中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch科研3d打印機(jī)m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動(dòng)化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時(shí)打印4種樹(shù)脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印，適用于基礎(chǔ)理論驗(yàn)證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控，多材料4d打印等方面。
更新時(shí)間:2025-12-12
中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch微納3d打印機(jī) p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2025-12-12
中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch 3d打印機(jī)p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2025-12-12
理音RION 采樣器統(tǒng)
理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器，當(dāng)腔體壓力過(guò)高的時(shí)候， 可以排凈空氣，防止發(fā)生故障 ，設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單的化學(xué)防爆采樣器，kz-30uk的設(shè)計(jì)是可以為 離線測(cè)試的液體粒子計(jì)數(shù)器提供加壓。
更新時(shí)間:2025-12-12
美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨(dú)立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺(tái)式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡(jiǎn)便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-12-12
美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)
美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨(dú)立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴(kuò)展nsc-3500緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質(zhì)材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺(tái)式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射
更新時(shí)間:2025-12-12
NANO-MASTER的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)
nano-master的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜。基板可以容納8英寸晶圓，可通過(guò)射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過(guò)熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
更新時(shí)間:2025-12-12
美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過(guò)樣片掩膜實(shí)現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過(guò)電腦控制單個(gè)電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動(dòng)上下片，以及手動(dòng)或自動(dòng)翻轉(zhuǎn)樣片實(shí)現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射
更新時(shí)間:2025-12-12
美NANO-MASTER IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨(dú)立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺(tái)式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射
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美Nano-master等離子清洗/灰化系統(tǒng)
nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過(guò)計(jì)算機(jī)控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨(dú)一無(wú)二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
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