hy-ml系列超低溫面源黑體為真空環(huán)境適用的面源黑體產品,其溫度控制采用薄膜型加熱器件,主動降溫則通過液氮或低溫循環(huán)氦氣實現(xiàn)。搭配自主研發(fā)的溫度控制系統(tǒng)后,能夠在較寬的溫度區(qū)間內(150k~450k,低溫均可擴展至40k)實現(xiàn)調控。該面源黑體具有溫度均勻性好、發(fā)射率高的特點,同時集成化與標準化程度較高,可應用于實驗室及真空低溫環(huán)境下紅外成像器的輻射定標和非均勻性校正工作。
更新時間:2025-08-01