hy-ml系列超低溫面源黑體為真空環(huán)境適用的面源黑體產(chǎn)品,其溫度控制采用薄膜型加熱器件,主動降溫則通過液氮或低溫循環(huán)氦氣實(shí)現(xiàn)。搭配自主研發(fā)的溫度控制系統(tǒng)后,能夠在較寬的溫度區(qū)間內(nèi)(150k~450k,低溫均可擴(kuò)展至40k)實(shí)現(xiàn)調(diào)控。該面源黑體具有溫度均勻性好、發(fā)射率高的特點(diǎn),同時(shí)集成化與標(biāo)準(zhǔn)化程度較高,可應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室及真空低溫環(huán)境下紅外成像器的輻射定標(biāo)和非均勻性校正工作。
更新時(shí)間:2025-08-01